Theory and Application of Laser Chemical Vapor Deposition

در این مونوگراف، نویسندگان یک بررسی جامع از آخرین تحقیقات در مورد رسوب بخار شیمیایی لیزری (LCVD) ارائه می‌کنند. فصل‌ها فیزیک LCVD و همچنین اصول طیف گسترده‌ای از پدیده‌های مرتبط از جمله برهم‌کنش‌های لیزر-ماده، انتقال حرارت، جریان سیال، سینتیک شیمیایی و جذب را بررسی می‌کنند. با استفاده از این مرجع، محققان چگونگی به کارگیری این اصول را در توسعه نظریه‌های مربوط به انواع مختلف فرآیندهای LCVD کشف خواهند کرد. بینش بیشتری در مورد مکانیسم های اساسی LCVD به دست آورید. و توانایی طراحی و کنترل یک سیستم LCVD را بدست آورید.

In this monograph, the authors offer a comprehensive examination of the latest research on Laser Chemical Vapor Deposition (LCVD). Chapters explore the physics of LCVD as well as the principles of a wide range of related phenomena-including laser-matter interactions, heat transfer, fluid flow, chemical kinetics, and adsorption. With this reference, researchers will discover how to apply these principles to developing theories about various types of LCVD processes; gain greater insight into the basic mechanisms of LCVD; and obtain the ability to design and control an LCVD system.