Temperature Measurement during Millisecond Annealing: Ripple Pyrometry for Flash Lamp Annealers

دنیس رایشل موضوع حساس اندازه گیری دما را در حین بازپخت نیمه هادی ها بر پایه لامپ، به ویژه در هنگام بازپخت لامپ فلاش مطالعه می کند. رویکرد تصحیح پس‌زمینه با استفاده از نور مدوله‌شده با دامنه برای به‌دست آوردن بازتاب‌پذیری نمونه، از بازپخت حرارتی سریع برای اعمال در بازپخت میلی‌ثانیه‌ای دوباره اختراع شده است. نویسنده یک روش جدید مستقل از عملکرد لامپ برای به دست آوردن این مدولاسیون دامنه ارائه می‌کند و فرمولی برای توصیف فرآیند استخراج می‌کند. علاوه بر این، او متغیرهای فرمول را عمیقاً بررسی می کند تا مناسب بودن روش برای اندازه گیری دمای تصحیح شده پس زمینه را تأیید کند. نتایج تجربی در نهایت قدرت آن را برای دماهای بالا اثبات می کند.

Denise Reichel studies the delicate subject of temperature measurement during lamp-based annealing of semiconductors, in particular during flash lamp annealing. The approach of background-correction using amplitude-modulated light to obtain the sample reflectivity is reinvented from rapid thermal annealing to apply to millisecond annealing. The author presents a new method independent of the lamp operation to obtain this amplitude modulation and derives a formula to describe the process. Further, she investigates the variables of the formula in depth to validate the method’s suitability for background-corrected temperature measurement. The experimental results finally proof its power for elevated temperatures.