Surface Analysis by Electron Spectroscopy: Measurement and Interpretation

این کتاب پنجمین کتاب در سری کتاب‌های درسی علمی است که برای پوشش پیشرفت‌ها در زمینه‌های تحقیقاتی منتخب از دیدگاه اساسی و کلی طراحی شده است. خواننده با دقت اما به سرعت از طریق مطالب مقدماتی مورد توجه قرار می گیرد تا اهمیت تحولات اخیر تنها با دانش اولیه محدود قابل درک باشد. گنجاندن چکیده‌های بسیاری از مقالات مهم‌تر در ضمیمه، کمک بیشتری به افراد غیرمتخصص می‌کند و برای کسانی که می‌خواهند با ادبیات اصلی مشورت کنند، به‌عنوان تخته‌ای برای خواندن تکمیلی عمل می‌کند. تجزیه و تحلیل سطح موضوع کتاب ها و مقالات مروری متعددی بوده است، و اصول علمی اساسی تکنیک های رایج تر اکنون به طور معقولی تثبیت شده است. این کتاب با تکنیک‌های بسیار قدرتمند الکترون اوگر و طیف‌سنجی فوتوالکترون پرتو ایکس (AES و XPS)، با تأکید بر چگونگی انجام آن‌ها به عنوان بخشی از یک مرکز تحلیلی مدرن می‌پردازد. از زمان توسعه AES و XPS در اواخر دهه 1960 و اوایل دهه 1970، گام های بزرگی در حساسیت ها و وضوح ابزار دقیق برداشته شده است. به طور همزمان، این طیف‌سنجی‌ها هم از نظر پذیرش در کنار تکنیک‌های تحلیلی معمول‌تر و هم در گستره‌ای از مسائل و موادی که برای آن‌ها اعمال می‌شوند، دستخوش انفجار واقعی شده‌اند. در نتیجه، بسیاری از محققان در صنعت و دانشگاه اکنون نه به عنوان متخصص، بلکه به عنوان کاربر با AES و XPS در تماس هستند.

This book is t~e fifth in aseries of scientific textbooks designed to cover advances in selected research fields from a basic and general view­ point. The reader is taken carefully but rapidly through the introductory material in order that t~e significance of recent developments can be understood with only limited initial knowledge. The inclusion in the Appendix of the abstracts of many of the more important papers in the field provides further assistance for the non-specialist, and acts as aspringboard to supplementary reading for those who wish to consult the original liter­ ature. Surface analysis has been the subject of numerous books and review articles, and the fundamental scientific principles of t~e more popular techniques are now reasonably weIl established. This book is concerned with the very powerful techniques of Auger electron and X-ray photoelectron spectroscopy (AES and XPS), with an emphasis on how they may be performed as part of a modern analytical facility. Since the development of AES and XPS in the late 1960s and early 1970s there have been great strides forward in the sensitivities and resolutions of the instrumentation. Simultaneously, these spectroscopies have undergone a veritable explosion, both in their acceptance alongside more routine ana1ytical techniques and in the range of problems and materials to which they are applied. As a result, many researchers in industry and in academia now come into contact with AES and XPS not as specialists, but as users.