ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Subsecond Annealing of Advanced Materials: Annealing by Lasers, Flash Lamps and Swift Heavy Ions

دانلود کتاب بازپخت دوم مواد پیشرفته: بازپخت توسط لیزر، لامپ های فلاش و یون های سنگین سوئیفت

Subsecond Annealing of Advanced Materials: Annealing by Lasers, Flash Lamps and Swift Heavy Ions

مشخصات کتاب

Subsecond Annealing of Advanced Materials: Annealing by Lasers, Flash Lamps and Swift Heavy Ions

ویرایش: 1 
نویسندگان: , , ,   
سری: Springer Series in Materials Science 192 
ISBN (شابک) : 9783319031309, 9783319031316 
ناشر: Springer International Publishing 
سال نشر: 2014 
تعداد صفحات: 330 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 11 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 45,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب بازپخت دوم مواد پیشرفته: بازپخت توسط لیزر، لامپ های فلاش و یون های سنگین سوئیفت: مواد نوری و الکترونیکی، فناوری لیزر، فوتونیک، نیمه هادی ها، مایکروویوها، مهندسی نوری و RF، علوم سطح و رابط، لایه های نازک



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 12


در صورت تبدیل فایل کتاب Subsecond Annealing of Advanced Materials: Annealing by Lasers, Flash Lamps and Swift Heavy Ions به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب بازپخت دوم مواد پیشرفته: بازپخت توسط لیزر، لامپ های فلاش و یون های سنگین سوئیفت نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب بازپخت دوم مواد پیشرفته: بازپخت توسط لیزر، لامپ های فلاش و یون های سنگین سوئیفت



فرآوری حرارتی مواد از چند فم تا ثانیه توسط کاشت یون سنگین سویفت تا حدود یک ثانیه با استفاده از آنیل حرارتی پیشرفته پیشرفته متغیر است. این کتاب پس از یک گشت و گذار تاریخی، مشارکت های منتخبی را در مورد جنبه های اساسی و کاربردی پردازش حرارتی نیمه هادی های عنصری کلاسیک و سایر مواد پیشرفته از جمله نانوساختارها با خواص اپتوالکترونیکی، مغناطیسی و ابررسانایی جدید ارائه می دهد. تاکید ویژه بر انتشار و جداسازی اتم های ناخالصی در طول عملیات حرارتی داده شده است. طیف وسیعی از مثال‌ها پردازش فاز جامد و/یا مایع نیمه‌رساناهای عنصری و ترکیبی، کامپوزیت‌های دی‌الکتریک و مواد آلی را توصیف می‌کنند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

The thermal processing of materials ranges from few fem to seconds by Swift Heavy Ion Implantation to about one second using advanced Rapid Thermal Annealing. This book offers after an historical excursus selected contributions on fundamental and applied aspects of thermal processing of classical elemental semiconductors and other advanced materials including nanostructures with novel optoelectronic, magnetic, and superconducting properties. Special emphasis is given on the diffusion and segregation of impurity atoms during thermal treatment. A broad range of examples describes the solid phase and/or liquid phase processing of elemental and compound semiconductors, dielectric composites and organic materials.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages I-XVII
Historical Aspects of Subsecond Thermal Processing....Pages 1-13
Nanonet Formation by Constitutional Supercooling of Pulsed Laser Annealed, Mn-Implanted Germanium....Pages 15-33
Metastable Activation of Dopants by Solid Phase Epitaxial Recrystallisation....Pages 35-56
Superconducting Gallium Implanted Germanium....Pages 57-78
Structural Changes in SiGe/Si Layers Induced by Fast Crystallization....Pages 79-105
Sub-nanosecond Thermal Spike Induced Nanostructuring of Thin Solid Films Under Swift Heavy Ion (SHI) Irradiation....Pages 107-121
Pulsed-Laser-Induced Epitaxial Growth of Silicon for Three-Dimensional Integrated Circuits....Pages 123-138
Improvement of Performance and Cost of Functional Films Using Large Area Laser RTP....Pages 139-153
Pulsed Laser Dopant Activation for Semiconductors and Solar Cells....Pages 155-171
Formation of High-Quality μm-Order-Thick Poly-Si Films on Glass-Substrates by Flash Lamp Annealing....Pages 173-187
Millisecond-Range Liquid-Phase Processing of Silicon-Based Hetero-nanostructures....Pages 189-210
Radiation Thermometry—Sources of Uncertainty During Contactless Temperature Measurement....Pages 211-228
Millisecond Annealing for Semiconductor Device Applications....Pages 229-270
Low-Cost and Large-Area Electronics, Roll-to-Roll Processing and Beyond....Pages 271-295
Application of Sub-second Annealing for Diluted Ferromagnetic Semiconductors....Pages 297-314
Back Matter....Pages 315-321




نظرات کاربران