دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: R. Goossens (auth.), Dr.Ir. Kristin De Meyer, Ir. Serge Biesemans (eds.) سری: ISBN (شابک) : 9783709174159, 9783709168271 ناشر: Springer-Verlag Wien سال نشر: 1998 تعداد صفحات: 422 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 31 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 1998: SISPAD 98: الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق، مواد نوری و الکترونیکی، شبیه سازی و مدل سازی، پیچیدگی
در صورت تبدیل فایل کتاب Simulation of Semiconductor Processes and Devices 1998: SISPAD 98 به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی 1998: SISPAD 98 نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این جلد شامل مجموعه مقالات کنفرانس بین المللی 1998 در مورد شبیه سازی فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی است و یک انجمن آزاد برای ارائه آخرین نتایج و روندها در مدل سازی و شبیه سازی تجهیزات، فرآیندها و دستگاه های نیمه هادی فراهم می کند. موضوعات عبارتند از: • شبیه سازی تجهیزات نیمه هادی • مدل سازی و شبیه سازی فرآیند • مدل سازی دستگاه و شبیه سازی ساختارهای پیچیده • مدل سازی اتصالات داخلی • سیستم های یکپارچه برای شبیه سازی و بهینه سازی فرآیند، دستگاه، مدار • روش ها و الگوریتم های عددی • مدل سازی فشرده و استخراج پارامتر • مدل سازی برای RF برنامه های کاربردی • شبیه سازی و مدل سازی دستگاه های جدید (مبتنی بر اتصال ناهمگن، SET، دستگاه های اثر کوانتومی، مبتنی بر لیزر ...)
This volume contains the proceedings of the 1998 International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices and provides an open forum for the presentation of the latest results and trends in modeling and simulation of semiconductor equipment, processes and devices. Topics include: • semiconductor equipment simulation • process modeling and simulation • device modeling and simulation of complex structures • interconnect modeling • integrated systems for process, device, circuit simulation and optimisation • numerical methods and algorithms • compact modeling and parameter extraction • modeling for RF applications • simulation and modeling of new devices (heterojunction based, SET’s, quantum effect devices, laser based ...)
Front Matter....Pages I-XIV
TCAD at the SRC....Pages 1-2
TCAD in Selete....Pages 3-7
Integration of Lithography and Etch Simulations....Pages 8-11
Integrated Three-Dimensional Topography Simulation and its Application to Dual-Damascene Processing....Pages 12-15
Efficient Algorithms for Three-Dimensional Etching and Deposition Simulation....Pages 16-19
Development of a gas-phase chemistry model for numerical prediction of MOVPE of GaN in industrial scale reactors....Pages 20-21
Modeling of flow and heat transfer in a vertical reactor for the MOCVD of zirconium-based coatings....Pages 22-25
Design Optimization of RF Power MOSFET’s Using Large Signal Analysis Device Simulation of Matching Networks....Pages 26-29
Modeling of Temperature Dependence of a Floating Pad Structure’s RF Properties....Pages 30-33
A comprehensive model of a VLSI spiral inductor derived from the first principles....Pages 34-37
Simulation of SiGe Epitaxial Growth for RF-Bipolar Transistors....Pages 38-41
Extension of Spherical Harmonic Method to RF Transient Regime....Pages 42-45
Multiscale Modeling of the Implantation and Annealing of Silicon Devices....Pages 46-47
Dynamics of Arsenic dose loss at the SiO 2 interface during TED....Pages 48-50
Damage Accumulation by Arsenic Ion Implantation and Its Impact on Transient Enhanced Diffusion of As and B....Pages 51-54
A Simple Continuum Model for Simulation of Boron Interstitial Clusters based on Atomistic Calculations....Pages 55-58
Electromagnetic Simulation for the Modeling of Interconnects....Pages 59-60
Layout-Based 3D Solid Modeling of IC Structures and Interconnects Including Electrical Parameter Extraction....Pages 61-64
Exponential Expansion for Rapid and Accurate Extraction of Interconnect Capacitance....Pages 65-68
Rigorous Capacitance Simulation of DRAM Cells....Pages 69-72
A Hybrid Technique for TCAD Modeling and Optimization....Pages 73-76
A Qualitative Study on Optimized MOSFET Doping Profiles....Pages 77-80
Modeling Process and Transistor Variation for Circuit Performance Analysis....Pages 81-84
Statistical Modeling based on extensive TCAD simulations Proposed methodology for extraction of Fast/Slow models and Statistical models....Pages 85-88
Parallel and Distributed TCAD Simulations using Dynamic Load Balancing....Pages 89-92
Device Simulator Calibration for Quartermicron CMOS Devices....Pages 93-96
Automatic Mesh Refinement for 3D Numerical Simulation of Thermal Diffusion in Silicon....Pages 97-100
A Common Mesh Implementation for Both Static and Moving Boundary Process Simulations....Pages 101-104
A Dopant-Dependent Band Gap Narrowing Model Application for Bipolar Device Simulation....Pages 105-108
Improved Modeling of Bandgap-Narrowing Effects in Silicon p + /n + Junctions....Pages 109-112
Simulation of Electron Mobility in Ultrathin Fully Depleted Single Gate SOI MOSFETs....Pages 113-116
Simplified Simulator for Neutron-Induced Soft Errors Based on Modified BGR Model....Pages 117-120
Quantum effects in the simulation of conventional devices....Pages 121-128
Efficient Quantum Correction Model for Multi-dimensional CMOS Simulations....Pages 129-132
The Role of Quantization Effects in Inversion Hole Layers of Tunnel MOS Structures on n-Si Substrates....Pages 133-136
Multi-dimensional Quantum Effect Simulation Using a Density-Gradient Model and Script-Level Programming Techniques....Pages 137-140
Microsystem CAD: From FEM to System Simulation....Pages 141-148
Methods for model generation and parameter extraction for MEMS....Pages 149-152
A Heterogeneous Environment for Computational Prototyping and Simulation Based Design of MEMS Devices....Pages 153-156
Bias-Dependent Low-Frequency Noise Model for Low Phase Noise InP HEMT based MMIC Oscillator Design....Pages 157-160
3D Modeling of Sputter Process with Monte Carlo Method....Pages 161-164
Effects of scaling and lattice heating on n-MOSFET performance via electrothermal Monte Carlo simulation....Pages 165-168
Efficient Modeling of Spatially Varying Degeneracy in Monte Carlo Particle Simulation of Highly Doped Submicron HEMT....Pages 169-172
Monte Carlo modelling of spin relaxation in a III-V two dimensional electron channel....Pages 173-176
Combining the Scattering Matrix and Spherical Harmonic Methods for Semiconductor Modeling....Pages 177-180
Discretization of the Brillouin Zone by an Octree/Delaunay Method with Application to Full-Band Monte Carlo Transport Simulation....Pages 181-184
A Hybrid Approach for Building 2D and 3D Conforming Delaunay Meshes Suitable for Process and Device Simulation....Pages 185-188
Improving the quality of Delaunay triangulations for the control volume discretization method....Pages 189-192
Three-Dimensional Adaptive Mesh Relaxation....Pages 193-196
Grid Adaptation for Device Simulation According to the Dissipation Rate....Pages 197-200
Single Electron Memory Device Simulations....Pages 201-202
TCAD oriented simulation of single-electron transistors at device level....Pages 203-206
Quantum Electron-Phonon Interaction for Transport in Open Nanostructures....Pages 207-210
Origin of Drain-Current Oscillation on Ultra-Thin-SOI n-MOSFET....Pages 211-214
Scattering Theory of Carrier Transport in Semiconductor Devices....Pages 215-222
Statistically reliable ‘Atomistic’ Simulation of Sub 100 nm MOSFETs....Pages 223-226
On The Modeling Of CV Data For State-Of-The-Art CMOS Technologies: Do We Need To Include Fast Interface States?....Pages 227-230
New Hot-Carrier Degradation Mechanism for MOSFET Devices Using Two-Type Interface-State Model....Pages 231-234
Influence of the Ge concentration on the threshold voltage and subthreshold slope of nanoscale vertical Si/SiGe pMOSFETs....Pages 235-238
Anisotropic Ballistic In—Plane Transport of Electrons in Strained Si....Pages 239-242
Simulation of Be diffusion in the base layer of InGaAs/InP Heterojunction Bipolar Transistors....Pages 243-246
Hydrodynamic Mixed-Mode Simulation....Pages 247-250
Simulation of Dynamic Ionization Effects in 6H-SiC Devices....Pages 251-254
Coupled 3D Process and Device Simulation of Advanced MOSFETs....Pages 255-258
Analysis of the asymmetric breakdown characteristics of trench isolation structure by using TCAD....Pages 259-262
Characterisation of the Corner Effect by composed 2D Device Simulations....Pages 263-266
A Physics Based Resistance Model of the Overlap Regions in LDD-MOSFETs....Pages 267-270
A Physically-Based Compact Model for LDMOS Transistors....Pages 271-274
Simulation of Carrier Transport and Hot Phonon Effects in Quantum Well Laser Diodes....Pages 275-275
Numerical Simulation of Infrared Laser Probing Techniques....Pages 276-279
Quasi 3—D Simulation of Quantum Well DFB Lasers....Pages 280-283
Simulation of AVC Measurements....Pages 284-287
Statistical Circuit Modeling....Pages 288-295
A new compact model for the analysis of the anomalies in I-V characteristics of Schottky diodes....Pages 296-299
Investigation of Non-Punch-Through IGBTs with different trench designs....Pages 300-303
Elimination of Non-Simultaneous Triggering Effects in Finger-type ESD Protection Transistors Using Heterojunction Buried Layer....Pages 304-307
Influence of the S/D architecture on the V T of deep submicron MOSFETs....Pages 308-311
A Physically-Based Electron Mobility Model for Silicon Device Simulation....Pages 312-315
Modeling Hole Surface- and Bulk-Mobility in the Frame of a Spherical-Harmonics Solution of the BTE....Pages 316-319
Hydrodynamic model for hot carriers in silicon based on the maximum entropy formalism....Pages 320-323
Minimizing Bitline Coupling Noise in DRAM with Capacitor-Equiplanar-to-Bitline (CEB) Cell Structure....Pages 324-327
The Modeling of Electromigration A New Challenge for TCAD?....Pages 328-331
Correlation of Finite Element Stress Simulations with Electromigration-Induced Fractures in Tungsten Plug Structures....Pages 332-335
Accurate Layout-Based Interconnect Analysis....Pages 336-339
Continuous Field Analysis of Distributed Parasitic Effects Caused by Interconnects in High Power Semiconductor Modules....Pages 340-343
Molecular Dynamics Analysis of Grain-Boundary Grooving in Thin-Film Interconnects for ULSIs....Pages 344-347
Industrial Demands on Process and Device Simulation....Pages 348-355
Point defect parameter extraction through their reaction with dislocation loops....Pages 356-359
Recombination of Point Defects via Extended Defects and Its Influence on Dopant Diffusion....Pages 360-363
A Systematic and Physically Based Method of Extracting a Unified Parameter Set for a Point-Defect Diffusion Model....Pages 364-367
Two-Dimensional Simulation of Ferroelectric Nonvolatile Memory Cells....Pages 368-371
Influence of the Poly Gate Depletion Effect on Programming EEPROM Cells....Pages 372-375
Simulation based development of EEPROM devices within a 0.35 µ m process....Pages 376-379
Modeling the trapping and de-trapping of phosphorus at the Si to SiO 2 interface....Pages 380-383
Derived Boundary Conditions for Viscous Thermal Oxidation Equations in Pressure Potential Form....Pages 384-387
Modeling and Simulation of Oxygen Precipitation in CZ Silicon....Pages 388-391
Predictive Soft Error Rate Evaluation System....Pages 392-395
Modeling of Particle-Irradiated Devices....Pages 396-399
3D-Simulation of an Enhanced Field-Funneling Effect on the Collection of Alpha-Particle-Generated Carriers in P − on P + Epitaxial Substrates....Pages 400-403
Back Matter....Pages 404-410