ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Silizium-Halbleitertechnologie

دانلود کتاب فناوری نیمه هادی سیلیکونی

Silizium-Halbleitertechnologie

مشخصات کتاب

Silizium-Halbleitertechnologie

ویرایش: 4, durchges. und erg. Aufl. 
نویسندگان:   
سری: Teubner Studienskripten Soziologie 
ISBN (شابک) : 9783519301493, 9783322940728 
ناشر: Vieweg+Teubner Verlag 
سال نشر: 2004 
تعداد صفحات: 338 
زبان: German 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 10 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 32,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب فناوری نیمه هادی سیلیکونی: الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 22


در صورت تبدیل فایل کتاب Silizium-Halbleitertechnologie به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب فناوری نیمه هادی سیلیکونی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب فناوری نیمه هادی سیلیکونی

اساس فناوری یکپارچه سازی میکروالکترونیک، فناوری نیمه هادی سیلیکونی است. این از تعداد زیادی فرآیند تکراری تشکیل شده است که پیاده سازی و تجهیزات آن باید الزامات شدید را برآورده کند تا اندازه ساختار مورد نیاز تا چند 100 نانومتر به طور یکنواخت و قابل تکرار تولید شود. تعامل اکسیداسیون، مراحل اچ و کاشت برای تولید مدارهای MOS و دوقطبی - از سیلیکون خام تا مدار مجتمع محصور شده - از دیدگاه کاربر توضیح داده شده است. علاوه بر اصول اولیه، این کتاب همچنین به اجرای فنی فرآیندهای فردی برای فناوری یکپارچه سازی می پردازد. برای روشن شدن بیشتر مطالب، تصاویر و بالاتر از همه تمرینات اضافی به ویرایش چهارم اضافه شد.
"اولریش هیلرینگمن با کتاب (...) خود در انجام این کار موفق شد: موضوع پیچیده و گسترده را به طور دقیق و در عین حال همیشه به روشی قابل درک ارائه کرد."
Electronics, 11/2003


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Grundlage der mikroelektronischen Integrationstechnik ist die Silizium-Halbleitertechnologie. Sie setzt sich aus einer Vielzahl von sich wiederholenden Einzelprozessen zusammen, deren Durchf?hrung und apparative Ausstattung extremen Anforderungen gen?gen m?ssen, um die geforderten Strukturgr??en bis zu wenigen 100 nm gleichm??ig und reproduzierbar zu erzeugen. Das Zusammenspiel der Oxidationen, ?tzschritte und Implantationen zur Herstellung von MOS- und Bipolarschaltungen werden - ausgehend vom Rohsilizium bis zur gekapselten integrierten Schaltung - aus Sicht des Anwenders erl?utert. Das Buch behandelt neben den Grundlagen auch die technische Durchf?hrung der Einzelprozesse zur Integrationstechnik. Zur weiteren Verdeutlichung des Stoffes wurden in der 4. Auflage Abbildungen und vor allem weitere ?bungsaufgaben erg?nzt.
"Ulrich Hilleringmann ist mit seinem (...) Buch genau dies gelungen: die komplexe und umfangreiche Materie pr?zise und doch stets verst?ndlich darzustellen."
Elektronik, 11/2003



فهرست مطالب

Front Matter....Pages I-XIII
Einleitung....Pages 1-4
Herstellung von Siliziumscheiben....Pages 5-24
Oxidation des Siliziums....Pages 25-38
Lithografie....Pages 39-64
Ätztechnik....Pages 65-90
Dotiertechniken....Pages 91-118
Depositionsverfahren....Pages 119-137
Metallisierung und Kontakte....Pages 138-159
Scheibenreinigung....Pages 160-170
MOS-Technologien zur Schaltungsintegration....Pages 171-202
Erweiterungen zur Höchstintegration....Pages 203-247
Bipolar-Technologie....Pages 248-261
Montage integrierter Schaltungen....Pages 262-289
Back Matter....Pages 290-326




نظرات کاربران