ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Silicon Technologies: Ion Implantation and Thermal Treatment

دانلود کتاب Silicon Technologies: کاشت یون و درمان حرارتی

Silicon Technologies: Ion Implantation and Thermal Treatment

مشخصات کتاب

Silicon Technologies: Ion Implantation and Thermal Treatment

ویرایش:  
 
سری:  
ISBN (شابک) : 9781848212312, 9781118601044 
ناشر:  
سال نشر:  
تعداد صفحات: 347 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 18 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 28,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 16


در صورت تبدیل فایل کتاب Silicon Technologies: Ion Implantation and Thermal Treatment به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب Silicon Technologies: کاشت یون و درمان حرارتی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب Silicon Technologies: کاشت یون و درمان حرارتی

محتوا:
فصل 1 اکسیداسیون سیلیکون و کاربید سیلیکون (صفحات 1-101): Jean?Jacques Ganem and Isabelle Trimaille
فصل 2 کاشت یون (صفحات 103-153): Jean?Jacques Grob
فصل 3 انتشار: مدل‌سازی و چالش‌های فناوری (صفحات 155-207): دانیل ماتیوت
فصل 4 اپیتاکسی ناهم‌ساختارهای Si/Si1?x Gex (صفحات 209-331): ژان میشل هارتمن


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Content:
Chapter 1 Silicon and Silicon Carbide Oxidation (pages 1–101): Jean?Jacques Ganem and Isabelle Trimaille
Chapter 2 Ion Implantation (pages 103–153): Jean?Jacques Grob
Chapter 3 Dopant Diffusion: Modeling and Technological Challenges (pages 155–207): Daniel Mathiot
Chapter 4 Epitaxy of Strained Si/Si1?x Gex Heterostructures (pages 209–331): Jean?Michel Hartmann





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی