ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Silicon Chemical Etching

دانلود کتاب حکاکی شیمیایی سیلیکونی

Silicon Chemical Etching

مشخصات کتاب

Silicon Chemical Etching

ویرایش: 1 
نویسندگان: , ,   
سری: Crystals 8 
ISBN (شابک) : 9783642687679, 9783642687655 
ناشر: Springer-Verlag Berlin Heidelberg 
سال نشر: 1982 
تعداد صفحات: 233 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 10 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 42,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب حکاکی شیمیایی سیلیکونی: شیمی معدنی، شیمی فیزیک



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 9


در صورت تبدیل فایل کتاب Silicon Chemical Etching به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب حکاکی شیمیایی سیلیکونی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب حکاکی شیمیایی سیلیکونی



در اولین مقاله به این حجم می خوانیم که تولید جهانی سیلیکون تک کریستال حدود 2000 تن در سال است. با توجه به اندازه بلورهای سیلیکونی امروزی، این تعداد معادل 100000 کریستال سیلیکونی است که هر ساله توسط روش Czochralski (80٪) یا منطقه شناور (20٪) رشد می کند. اما، تا آنجا که من می دانم، هیچ مقاله منسجم و جامعی نوشته نشده است که به "هنر و علم" و همچنین جنبه های عملی و فنی رشد کریستال های سیلیکون با تکنیک Czochralski بپردازد. اگر مقاله مروری W. Dietze، W. Keller و A. Miihlbauer که در جلد 5 قبلی ("سیلیکون") از این مجموعه منتشر شده بود، در مورد تکنیک منطقه شناور نیز همینطور است برای تک نگاری دو نفر از نویسندگان فوق که تقریباً در همان زمان منتشر شده است). به عنوان ویراستار این جلد، بسیار خوشحالم که موفق شدم دو دانشمند، W. Zulehner و D. Huber، از Wacker-Chemitronic GmbH - بزرگترین تولید کننده کریستال سیلیکون در جهان - را متقاعد کنم که مقاله ای جامع در مورد موارد کاربردی و کاربردی بنویسند. جنبه های علمی رشد کریستال های سیلیکونی به روش چوکرالسکی و در مورد ساخت ویفر سیلیکونی من مطمئن هستم که بسیاری از دانشمندان یا مهندسانی که با کریستال های سیلیکون کار می کنند - چه در آزمایشگاه و چه در محیط تولید - از اولین مقاله در این جلد سود خواهند برد.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

In the first contribution to this volume we read that the world-wide production of single­ crystal silicon amounts to some 2000 metric tons per year. Given the size of present-day silicon-crystals, this number is equivalent to 100000 silicon-crystals grown every year by either the Czochralski (80%) or the floating-zone (20%) technique. But, to the best of my knowledge, no coherent and comprehensive article has been written that deals with "the art and science", as well as the practical and technical aspects of growing silicon­ crystals by the Czochralski technique. The same could be said about the floating-zone technique were it not for the review article by W. Dietze, W. Keller and A. Miihlbauer which was published in the preceding Volume 5 ("Silicon") of this series (and for a monograph by two of the above authors published about the same time). As editor of this volume I am very glad to have succeeded in persuading two scien­ tists, W. Zulehner and D. Huber, of Wacker-Chemitronic GmbH - the world's largest producer of silicon-crystals - to write a comprehensive article about the practical and scientific aspects of growing silicon-crystals by the Czochralski method and about silicon­ wafer manufacture. I am sure that many scientists or engineers who work with silicon­ crystals -be it in the laboratory or in a production environment - will profit from the first article in this volume.



فهرست مطالب

Front Matter....Pages i-vii
Czochralski-Grown Silicon....Pages 1-143
Dendritic Web Growth of Silicon....Pages 145-172
Principles of Chemical Etching — The Art and Science of Etching Crystals....Pages 173-224
Back Matter....Pages 225-228




نظرات کاربران