دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: الکترونیک: رادیو ویرایش: نویسندگان: Lih J. Chen سری: ناشر: سال نشر: تعداد صفحات: 299 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 3 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Silicide Technology for Integrated Circuits (Processing) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب فناوری سیلیس برای مدارهای مجتمع (پردازش) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
CONTENTS......Page 6
Editor......Page 12
Authors......Page 14
1. Silicides – an introduction......Page 20
2. Silicide formation......Page 34
3. Titanium silicide technology......Page 68
4. Cobalt silicide technology......Page 96
5. Nickel silicide technology......Page 114
6. Light-emitting iron disilicide......Page 172
7. Silicide contacts for Si/Ge devices......Page 194
8. Silicide technology for SOI devices......Page 220
9. Characterisation of metal silicides......Page 248
Appendix: Glossary......Page 282
Index......Page 290