دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: James Moyne, Enrique del Castillo, Arnon M. Hurwitz سری: ISBN (شابک) : 0849311780, 9780849311789 ناشر: CRC Press سال نشر: 2000 تعداد صفحات: 341 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 9 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Run-to-Run Control in Semiconductor Manufacturing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب کنترل Run-to-Run در ساخت نیمه هادی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
کنترل Run-to-Run (R2R) یک فناوری پیشرفته است که اجازه می دهد تا یک دستور محصول را بین \"اجرا\" ماشین تغییر دهید و در نتیجه انحراف فرآیند، جابجایی و تغییرپذیری و همراه با آنها هزینه ها را به حداقل می رساند. اثربخشی آن در فرآیندهای مختلفی مانند اپیتاکسی فاز بخار، لیتوگرافی و صفحهبندی مکانیکی شیمیایی نشان داده شده است. تنها مانعی که در صنعت نیمه هادی برای پذیرش گسترده این کنترل فرآیند بسیار مؤثر وجود دارد، عدم درک این فناوری است. Run to Run Control در ساخت نیمه هادی با ارائه تحلیل های عمیق کنترل R2R بر این مانع غلبه می کند.
Run-to-run (R2R) control is cutting-edge technology that allows modification of a product recipe between machine "runs," thereby minimizing process drift, shift, and variability-and with them, costs. Its effectiveness has been demonstrated in a variety of processes, such as vapor phase epitaxy, lithography, and chemical mechanical planarization. The only barrier to the semiconductor industry's widespread adoption of this highly effective process control is a lack of understanding of the technology. Run to Run Control in Semiconductor Manufacturing overcomes that barrier by offering in-depth analyses of R2R control.
Content: Introduction What is Run-top-Run Control? Target Audience Purpose of this Book Outline Background Current State-of-the-Art in Semiconductor Manufacturing Process Control History of the Development of Run-to-Run Control Current State o-of-the-Art in Run-to-Run Control Development and Deployment Simple Example: Run-to-Run Control and Comparison to Statistical Process Control Identifying Target Applications for Run-to-Run Control Class of Applications that can Utilize Run-t0-Run Control General Run-to-Run Control Development and Deployment Process Issues in Deploying Run-to-Run Control Developing a Run-to-Run Solution: Run-to-Run Algorithms Introduction Linear Approximation Algorithms Higher Order Approximation Algorithms Neural Network Algorithms Other Approaches Developing a Run-to-Run Solution: Practical Extensions to Algorithms Developing and Deploying Run-to-Run Solutions: Integrating Control Introduction The Generic Cell Controller Other Approaches Integrating into Factory-Wide Manufacturing System Run-to-Run Solution Development, Deployment, and Customization Methodology Introduction Process Identification Choosing a Run-to-Run Control Solution Customizing the Run-to-Run Control Solution to the Process Issues Run-to-Run Control System Deployment Case Studies Chemical-Mechanical Planarization Vapor Phase Epitaxy Advanced Topics Feasibility Analysis of Run-to-Run Control Solutions Stability Analysis of Run-to-Run Control Solutions Combining Process Run-to-Run Control with Inter-Process Control Conclusions Summary of Run-to-Run Development and Deployment Process Deploying Run-to-Run Control in a Timely and Cost Effective Manner Overcoming Barriers to Deployment Future Research and Development Issues References