دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: Tadayoshi Ono, Takahiro Kenmotsu, Tetsuya Muramoto (auth.), Dr. Diederik Depla, Dr. Stijn Mahieu (eds.) سری: Springer Series in Materials Science 109 ISBN (شابک) : 9783540766629, 9783540766643 ناشر: Springer-Verlag Berlin Heidelberg سال نشر: 2008 تعداد صفحات: 583 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 21 مگابایت
در صورت ایرانی بودن نویسنده امکان دانلود وجود ندارد و مبلغ عودت داده خواهد شد
کلمات کلیدی مربوط به کتاب رسوب دهی واکنشی: سطوح و واسط ها، لایه های نازک، فیزیک ماده متراکم، شیمی فیزیک، شیمی صنعتی/مهندسی شیمی
در صورت تبدیل فایل کتاب Reactive Sputter Deposition به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب رسوب دهی واکنشی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
استفاده از لایه های نازک به طور مداوم در حال گسترش است. در خانواده تکنیکهای رسوب بخار فیزیکی، کندوپاش یکی از مهمترین روشهای 40 سال گذشته است. در این کتاب، تمام جنبههای فرآیند کندوپاش مگنترون راکتیو، از تخلیه تا رشد لایه نازک حاصل، به تفصیل شرح داده شده است و به خواننده اجازه میدهد تا فرآیند کامل را درک کند. از این رو، این کتاب اطلاعات لازم را در اختیار کسانی قرار می دهد که می خواهند:
- با کندوپاش مگنترون واکنشی شروع کنند
- این تکنیک را درک و بررسی کنند
- کندوپاش خود را کنترل کنند. process
- روند موجود خود را تنظیم کنید و لایه های نازک مورد نظر را به دست آورید.
The use of thin films is continuously expanding. In the family of Physical Vapour Deposition techniques, sputtering is one of the most important over the past 40 years. In this book, all aspects of the reactive magnetron sputtering process, from the discharge up to the resulting thin film growth, are described in detail, allowing the reader to understand the complete process. Hence, this book gives necessary information for those who want to:
- start with reactive magnetron sputtering
- understand and investigate the technique
- control their sputtering process
- tune their existing process, obtaining the desired thin films.
Front Matter....Pages i-xviii
Simulation of the Sputtering Process....Pages 1-42
Electron Emission from Surfaces Induced by Slow Ions and Atoms....Pages 43-60
Modeling of the Magnetron Discharge....Pages 61-130
Modelling of Reactive Sputtering Processes....Pages 131-152
Depositing Aluminium Oxide: A Case Study of Reactive Magnetron Sputtering....Pages 153-197
Transport of Sputtered Particles Through the Gas Phase....Pages 199-227
Energy Deposition at the Substrate in a Magnetron Sputtering System....Pages 229-254
Process Diagnostics....Pages 255-300
Optical Plasma Diagnostics During Reactive Magnetron Sputtering....Pages 301-335
Reactive Magnetron Sputtering of Indium Tin Oxide Thin Films: The Cross-Corner and Cross-Magnetron Effect....Pages 337-366
Reactively Sputter-Deposited Solid Electrolytes and Their Applications....Pages 367-411
Reactive SputteredWide-Bandgap p-Type Semiconducting Spinel AB 2 O 4 and Delafossite ABO 2 Thin Films for “Transparent Electronics”....Pages 413-484
Oxide-Based Electrochromic Materials and Devices Prepared by Magnetron Sputtering....Pages 485-495
Atomic Assembly of Magnetoresistive Multilayers....Pages 497-559
Back Matter....Pages 561-570