دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: ابزار ویرایش: نویسندگان: Richard B. Fair (Eds.) سری: ISBN (شابک) : 9780122476907, 0122476905 ناشر: Academic Press سال نشر: 1993 تعداد صفحات: 428 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 8 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب پردازش حرارتی سریع علم و تکنولوژی: ابزار دقیق، نیمه هادی ها
در صورت تبدیل فایل کتاب Rapid Thermal Processing. Science and Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب پردازش حرارتی سریع علم و تکنولوژی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
1. پردازش حرارتی سریع -- یک توجیه / ریچارد بی فیر -- 2. اپیتاکسی مبتنی بر پردازش حرارتی سریع / J.L. Hoyt -- 3. رشد سریع حرارتی و پردازش دی الکتریک ها / هشام ز. مسعود -- 4. لایه نازک رسوب / Mehmet C. Ozturk -- 5. نقایص گسترده از کاشت و بازپخت یون / کوین اس جونز و جورج A. Rozgonyi -- 6. تشکیل اتصال در سیلیکون توسط آنیل حرارتی سریع / ریچارد بی. فیر -- 7. سیلیسید / سانتی متر. Osburn -- 8. مسائل مربوط به ساخت دستگاه های سیلیکونی منحصر به فرد با استفاده از آنیل حرارتی سریع / B. Lojek -- 9. مسائل مربوط به تجهیزات تولید در پردازش سریع حرارتی / Fred Roozeboom.
1. Rapid Thermal Processing -- A Justification / Richard B. Fair -- 2. Rapid Thermal Processing-Based Epitaxy / J.L. Hoyt -- 3. Rapid Thermal Growth and Processing of Dielectrics / Hisham Z. Massoud -- 4. Thin-Film Deposition / Mehmet C. Ozturk -- 5. Extended Defects from Ion Implantation and Annealing / Kevin S. Jones and George A. Rozgonyi -- 6. Junction Formation in Silicon by Rapid Thermal Annealing / Richard B. Fair -- 7. Silicides / C.M. Osburn -- 8. Issues in Manufacturing Unique Silicon Devices Using Rapid Thermal Annealing / B. Lojek -- 9. Manufacturing Equipment Issues in Rapid Thermal Processing / Fred Roozeboom.
Content:
Front Matter, Page iii
Copyright, Page iv
Contributors, Page viii
1 - Rapid Thermal Processing—A Justification, Pages 1-11, Richard B. Fair
2 - Rapid Thermal Processing–Based Epitaxy, Pages 13-43, J.L. Hoyt
3 - Rapid Thermal Growth and Processing of Dielectrics, Pages 45-77, Hisham Z. Massoud
4 - Thin-Film Deposition, Pages 79-122, Mehmet C. Öztürk
5 - Extended Defects from Ion Implantation and Annealing, Pages 123-168, Kevin S. Jones, George A. Rozgonyi
6 - Junction Formation in Silicon by Rapid Thermal Annealing, Pages 169-226, Richard B. Fair
7 - Silicides, Pages 227-309, C.M. Osburn
8 - Issues in Manufacturing Unique Silicon Devices Using Rapid Thermal Annealing, Pages 311-348, B. Lojek
9 - Manufacturing Equipment Issues in Rapid Thermal Processing, Pages 349-423, Fred Roozeboom
Index, Pages 425-430