دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب PVD for Microelectronics: Sputter Deposition Applied to Semiconductor Manufacturing
دانلود کتاب PVD برای میکروالکترونیک: رسوب پاشش به کار گرفته شده در ساخت نیمه هادی
مشخصات کتاب
PVD for Microelectronics: Sputter Deposition Applied to Semiconductor Manufacturing
ویرایش:
نویسندگان: Ronald A. Powell and Stephen M. Rossnagel (Eds.)
سری: Thin Films 26
ISBN (شابک) : 9780125330268
ناشر: Academic Press, Elsevier
سال نشر: 1999
تعداد صفحات: 419
زبان:
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 24 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 51,000
در صورت تبدیل فایل کتاب PVD for Microelectronics: Sputter Deposition Applied to Semiconductor Manufacturing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب PVD برای میکروالکترونیک: رسوب پاشش به کار گرفته شده در ساخت نیمه هادی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب PVD برای میکروالکترونیک: رسوب پاشش به کار گرفته شده در ساخت نیمه هادی
فیزیک لایه‌های نازک یکی از طولانی‌ترین مجموعه‌های در حال اجرا در علم لایه‌های نازک است که از 25 جلد از سال 1963 تشکیل شده است. این مجموعه شامل مطالعات کیفی درباره خواص مواد و سیستم‌های لایه‌های نازک مختلف است. برای اینکه بتواند توسعه علم امروز را منعکس کند و تمام جنبه های مدرن فیلم های نازک را پوشش دهد، این مجموعه با شروع جلد 20 از فیزیک اولیه فیلم های نازک فراتر رفته است. اکنون به مهمترین جنبه‌های لایه‌های نازک معدنی و آلی، هم در جنبه‌های نظری و هم از جنبه‌های تکنولوژیکی آن‌ها می‌پردازد. بنابراین، به منظور انعکاس مشکلات مدرن تکنولوژی محور، عنوان از فیزیک لایه های نازک به لایه های نازک کمی تغییر یافته است. این جلد، بخشی از مجموعه فیلم‌های نازک، به‌جای نمایش چندین نسخه خطی ویرایش‌شده، به‌طور کامل توسط دو نویسنده نوشته شده است.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Physics of Thin Films is one of the longest running continuing series in thin film science, consisting of 25 volumes since 1963. The series contains quality studies of the properties of various thin films materials and systems. In order to be able to reflect the development of today\'s science and to cover all modern aspects of thin films, the series, starting with Volume 20, has moved beyond the basic physics of thin films. It now addresses the most important aspects of both inorganic and organic thin films, in both their theoretical as well as technological aspects. Therefore, in order to reflect the modern technology-oriented problems, the title has been slightly modified from Physics of Thin Films to Thin Films. This volume, part of the Thin Films Series, has been wholly written by two authors instead of showcasing several edited manuscripts.
فهرست مطالب
Content:
Editorial Board
Page ii
Preface
Pages ix-xii
Ronald A. Powell, Stephen Rossnagel
Useful conversion factors and constants
Page xiii
Chapter 1 Introduction
Pages 1-21
Chapter 2 Physics of sputtering Original Research Article
Pages 23-49
Chapter 3 Plasma systems Original Research Article
Pages 51-86
Chapter 4 The planar magnetron Original Research Article
Pages 87-101
Chapter 5 Sputtering tools Original Research Article
Pages 103-183
Chapter 6 Directional deposition Original Research Article
Pages 185-213
Chapter 7 Planarized PVD: Use of elevated temperature and/or high pressure Original Research Article
Pages 215-240
Chapter 8 Ionized magnetron sputter deposition: I-PVD Original Research Article
Pages 241-284
Chapter 9 PVD materials and processes Original Research Article
Pages 285-352
Chapter 10 Process modeling for magnetron deposition Original Research Article
Pages 353-373
Chapter 11 Sputtering targets Original Research Article
Pages 375-400
Author index
Pages 401-408
Subject index
Pages 409-419
