Precursor Chemistry of Advanced Materials

سنتز مواد با تبدیل ترکیبات آلی فلزی (پیش سازها) توسط تکنیک های رسوب بخار مانند رسوب شیمیایی بخار (CVD) و رسوب لایه اتمی (ALD) در خط مقدم تحقیقات و توسعه مواد جدید امروزی بوده است. . نیاز به مسیرهای جدیدی برای طراحی و سنتز پیش سازهای جدید و همچنین استفاده از پیش سازهای مولکولی ایجاد شده برای استخراج مواد قابل تنظیم برای نیازهای تکنولوژیکی وجود دارد. با توجه به شیمی پیش سازها، درک دقیق ترین پیچیدگی مکانیکی تشکیل مواد از پیش سازهای مولکولی برای توسعه بیشتر فرآیندهای جدید و مواد پیشرفته بسیار مهم است. برای تاکید و تحریک تحقیقات در این زمینه‌ها، این جلد شامل مجموعه‌ای از مطالعات موردی است که جنبه‌های کلیدی مختلف تعامل شیمی پیش‌ساز با شرایط فرآیند تشکیل مواد، به ویژه به شباهت‌ها و تفاوت‌های CVD، ALD و سنتز نانوذرات را پوشش می‌دهد. ، به عنوان مثال. شیمی کلوئید، شامل پیش سازهای مولکولی مناسب است.

Material synthesis by the transformation of organometallic compounds (precursors) by vapor deposition techniques such as chemical vapor deposition (CVD) and atomic layer deposition (ALD) has been in the forefront of modern day research and development of new materials. There exists a need for new routes for designing and synthesizing new precursors as well as the application of established molecular precursors to derive tuneable materials for technological demands. With regard to the precursor chemistry, a most detailed understanding of the mechanistic complexity of materials formation from molecular precursors is very important for further development of new processes and advanced materials. To emphasize and stimulate research in these areas, this volume comprises a selection of case studies covering various key-aspects of the interplay of precursor chemistry with the process conditions of materials formation, particularly looking at the similarities and differences of CVD, ALD and nanoparticle synthesis, e.g. colloid chemistry, involving tailored molecular precursors.