ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Polymeric Materials for Microelectronic Applications. Science and Technology

دانلود کتاب مواد پلیمری برای کاربردهای میکروالکترونیکی. علم و تکنولوژی

Polymeric Materials for Microelectronic Applications. Science and Technology

مشخصات کتاب

Polymeric Materials for Microelectronic Applications. Science and Technology

ویرایش:  
نویسندگان: , ,   
سری: ACS Symposium Series 579 
ISBN (شابک) : 9780841230552, 0841230552 
ناشر: American Chemical Society 
سال نشر: 1994 
تعداد صفحات: 469 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 49 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 47,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 8


در صورت تبدیل فایل کتاب Polymeric Materials for Microelectronic Applications. Science and Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب مواد پلیمری برای کاربردهای میکروالکترونیکی. علم و تکنولوژی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب مواد پلیمری برای کاربردهای میکروالکترونیکی. علم و تکنولوژی


محتوا: فتوفیزیک، فتوشیمی، و اثرات نوری نوری در جامدات پلیمری / Kazuyuki Horie --
فوتوشیمی پلیمرهای کریستالی مایع / دیوید کرید، ریچارد A. Cozad، Anselm C. Griffin، Charles E. Hoyle ، لیکسین جین، پتارنان سوبرامانیان، سانگیا اس. ورما، و کریشنان ونکاتارام --
جذب الکترون تجزیه ای پلیمرها با انیدریدهای اسید پل زدن: مطالعه رزونانس اسپین الکترون جداسازی ماتریس / Paul H. Kasai --
مطالعه لومینسانس پلیمرهای معطر تابش شده با یون / Y. Aoki, H. Namba, F. Hosoi, and S. Nagai --
جهت‌های جدید در طراحی مقاومت‌های تقویت‌شده شیمیایی / E. Reichmanis, M.E. Galvin, K.E. Uhrich، P. Mirau، و S.A. Heffner --
مقاومت منفی دوتایی و پایه آبی بر اساس کم آبی کاتالیز شده با اسید / هیروشی ایتو و یاسوناری مائکاوا --
اهمیت واکنش های دهنده-گیرنده برای فتوتولید اسید در مقاومت های شیمیایی تقویت شده / Nigel P. Hacker --
تولید اسید در فیلم های مقاوم با تقویت شیمیایی / Takeo Watanabe، Yoshio Yamashita، Takahiro Kozawa، Yoichi Yoshida و Seiichi Tagawa --
ناشی از تشعشع واکنش‌های نمک‌های اونیوم در نوولاک / تاکاهیرو کوزاوا، ام. اوساکا، تاکئو واتانابه، یوشیو یاماشیتا، اچ. شیباتا، یویچی یوشیدا و سیچی تاگاوا --
نمک‌های سولفونیوم پلیمری به عنوان مولد اسید برای لیتوگرافی لیزری اگزایمر / Katsumi Maeda، Kaichiro Nakano و Etsuo Hasegawa --
کاربرد تری آریل فسفات در مواد حساس به نور: مکانیسم واکنش نوری تری آریل فسفات / I. Naito، A. Kinoshita، Y. Okamoto و S. Takamuku --
اثر آب روی لایه نامحلول سطحی مقاوم‌های مثبت تقویت‌شده شیمیایی / جیرو ناکامورا، هیروشی بان، یوشیو کاوای، و آکینوبو تاناکا --
خواص حرارتی یک رزین مقاوم شیمیایی تقویت‌شده / کوجی آساکاوا، آکینوری هونگو، نائوهیکو اویاساتو و ماکوتو Nakase --
مدلسازی و شبیه سازی سیستم های مقاوم شیمیایی تقویت شده / Akinori Hongu، Koji Asakawa، Tohru Ushirogouchi، Hiromitsu Wakabayashi، Satoshi Saito و Makoto Nakase --
تصویربرداری سطحی با استفاده از تشکیل پلی سیلوکسان کاتالیز شده با اسید القا شده با نور در رابط هوا-پلیمر / Masamitsu Shirai، Tomonobu Sumino، و Masahiro Tsunooka --
تصویربرداری از سطح برای کاربرد در لیتوگرافی زیر 0.35 [میکرو متر] / Ki-Ho Baik و Luc Van den Hove --
طراحی مولکولی رزین‌های اپوکسی برای بسته‌بندی میکروالکترونیک / Masashi Kaji --
جهت‌گیری مولکولی تک محوری و درون صفحه پلی‌آمیدها و پیش‌ساز آن‌ها که توسط دو رنگی جذبی رنگ پریلن بیسیمید مطالعه شده است / M. Hasegawa, T. Matano, Y. Shindo, و T. Sugimura --
پیش ساز پلی آمید حساس به نور جدید مبتنی بر پلی ایزویمید با استفاده از نیفدیپین به عنوان یک مهار کننده انحلال / Amane Mochizuki، Tadashi Teranishi، Mitsuru Ueda و Toshihiko Omote --
رفتار فتوشیمیایی مشتقات نیفدیپین و کاربرد آن پلی آمیدهای حساس به نور / T. Yamaoka، S. Yokoyama، T. Omote، K. Naitoh، و K. Yoshida --
هدایت موج در مواد پایدار در دمای بالا / C. Feger، S. Perutz، R. Reuter، J.E. McGrath، M. Osterfeld و H. Franke --
پلی‌آمید فلوئوردار رادمانند به عنوان یک ماده نوری دوشکست‌کننده درون صفحه / Shinji Ando، Takashi Sawada و Yasuyuki Inoue --
تهیه پلی‌فنیلن و کوپلیمرها برای برنامه های کاربردی میکروالکترونیک / N.A. Johnen, H.K. کیم و سی.کی. Ober --
تولید حامل بار و مهاجرت در یک ترکیب پلی دی استیلن مورد مطالعه با رسانایی مایکروویو با زمان تفکیک پالس رادیولیز --
G.P. ون در لان، M.P. د هاس، جی ام وارمن، دی.ام. de Leeuw و J. Tsibouklis --
دینامیک تحریک در پلیمرهای مزدوج / H. Bässler, E.O. گوبل، آ. گرینر، آر. کرستینگ، اچ. کورز، یو. لمر، آر. ماهرت و ی وادا --
کاربرد لایه های پلی آنیلین در دزیمتری تابش / یوئیچی اوکی، تاکنوری سوزوکی، تایچی میورا، ماساهارو نوماجیری و کنجیرو کوندو --
حال و آینده فولرن ها: C60 و توبول ها / کاتسومی تانیگاکی --
پلیمرهای مایع کریستالی پاسخگو به نور: ذخیره سازی هولوگرافیک، ذخیره سازی دیجیتال، و اجزای نوری هولوگرافیک / کلاوس اندرل و یواخیم اچ وندورف --
کنترل نوری همترازی آزیموتالی کریستال های مایع / Kunihiro Ichimura --
ساختار الکترونیکی و طیف جذب UV زنجیره های سیلیکونی پرمتیله / هارالد اس. پلیت، جان دبلیو داونینگ، هیرویوکی ترامای، مری کاترین ریموند و جوزف میکل --
خواص الکترونیکی پلی سیلان ها / R.G. کپلر و ز.جی. Soos --
طیف سنجی فوتوالکترون UV از پلی سیلان ها و پلی ژرمن ها / Kazuhiko Seki، Akira Yuyama، Satoru Narioka، Hisao Ishii، Shinji Hasegawa، Hiroaki Isaka، Masaie Fujino، Michiya Fujiki و Nobuo Matsumoto --
پلی سیلین ها / آکیرا واتانابه، مینورو ماتسودا، یویچی یوشیدا، و سیچی تاگاوا --
خواص نوری پلیمرهای مبتنی بر سیلیکون با ساختارهای مختلف ستون فقرات / کاتسونوری سوزوکی، یوشیهیکو کانمیتسو، سوئیچیرو کیوشین و هیدیوکی ماتسوموتو --
سنتز و خواص پلی سیلان های تهیه شده با پلیمریزاسیون حلقه باز / Eric Fossum و Krzysztof Matyjaszewski --
سنتز جدید و عامل دار کردن پلی (سیلیل اتر) حساس به نور با واکنش افزودن بیسپ اکسید با دی کلروسیلان / Atsushi Kameyaya, Nobuyuki تاداتومی نیشیکوبو.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی


Content: Photophysics, photochemistry, and photo-optical effects in polymer solids / Kazuyuki Horie --
Photochemistry of liquid-crystalline polymers / David Creed, Richard A. Cozad, Anselm C. Griffin, Charles E. Hoyle, Lixin Jin, Petharnan Subramanian, Sangya S. Varma, and Krishnan Venkataram --
Dissociative electron capture of polymers with bridging acid anhydrides : matrix isolation electron spin resonance study / Paul H. Kasai --
Luminescence study of ion-irradiated aromatic polymers / Y. Aoki, H. Namba, F. Hosoi, and S. Nagai --
New directions in the design of chemically amplified resists / E. Reichmanis, M.E. Galvin, K.E. Uhrich, P. Mirau, and S.A. Heffner --
Dual-tone and aqueous base developable negative resists based on acid-catalyzed dehydration / Hiroshi Ito and Yasunari Maekawa --
Importance of donor-acceptor reactions for the photogeneration of acid in chemically amplified resists / Nigel P. Hacker --
Acid generation in chemically amplified resist films / Takeo Watanabe, Yoshio Yamashita, Takahiro Kozawa, Yoichi Yoshida, and Seiichi Tagawa --
Radiation-induced reactions of onium salts in novolak / Takahiro Kozawa, M. Uesaka, Takeo Watanabe, Yoshio Yamashita, H. Shibata, Yoichi Yoshida, and Seiichi Tagawa --
Polymeric sulfonium salts as acid generators for excimer laser lithography / Katsumi Maeda, Kaichiro Nakano, and Etsuo Hasegawa --
Application of triaryl phosphate to photosensitive materials : photoreaction mechanism of triaryl phosphate / I. Naito, A. Kinoshita, Y. Okamoto, and S. Takamuku --
Effect of water on the surface insoluble layer of chemically amplified positive resists / Jiro Nakamura, Hiroshi Ban, Yoshio Kawai, and Akinobu Tanaka --
Thermal properties of a chemically amplified resist resin / Koji Asakawa, Akinori Hongu, Naohiko Oyasato, and Makoto Nakase --
Modeling and simulation of chemically amplified resist systems / Akinori Hongu, Koji Asakawa, Tohru Ushirogouchi, Hiromitsu Wakabayashi, Satoshi Saito, and Makoto Nakase --
Surface imaging using photoinduced acid-catalyzed formation of polysiloxanes at air-polymer interface / Masamitsu Shirai, Tomonobu Sumino, and Masahiro Tsunooka --
Surface imaging for applications to sub-0.35-[micrometer] lithography / Ki-Ho Baik and Luc Van den hove --
Molecular design of epoxy resins for microelectronics packaging / Masashi Kaji --
Uniaxial and in-plane molecular orientation of polyimides and their precursor as studied by absorption dichroism of perylenebisimide dye / M. Hasegawa, T. Matano, Y. Shindo, and T. Sugimura --
Novel photosensitive polyimide precursor based on polyisoimide using nifedipine as a dissolution inhibitor / Amane Mochizuki, Tadashi Teranishi, Mitsuru Ueda, and Toshihiko Omote --
Photochemical behavior of nifedipine derivatives and application to photosensitive polyimides / T. Yamaoka, S. Yokoyama, T. Omote, K. Naitoh, and K. Yoshida --
Waveguiding in high-temperature-stable materials / C. Feger, S. Perutz, R. Reuter, J.E. McGrath, M. Osterfeld, and H. Franke --
Rodlike fluorinated polyimide as an in-plane birefringent optical material / Shinji Ando, Takashi Sawada, and Yasuyuki Inoue --
Preparation of polyphenylene and copolymers for microelectronics applications / N.A. Johnen, H.K. Kim, and C.K. Ober --
Charge-carrier generation and migration in a polydiacetylene compound studied by pulse radiolysis time-resolved microwave conductivity --
G.P. van der Laan, M.P. de Haas, J.M. Warman, D.M. de Leeuw, and J. Tsibouklis --
Excitation dynamics in conjugated polymers / H. Bässler, E.O. Göbel, A. Greiner, R. Kersting, H. Kurz, U. Lemmer, R.F. Mahrt, and Y. Wada --
Application of polyaniline films to radiation dosimetry / Yuichi Oki, Takenori Suzuki, Taichi Miura, Masaharu Numajiri, and Kenjiro Kondo --
Present and future of fullerenes : C₆₀ and tubules / Katsumi Tanigaki --
Photoresponsive liquid-crystalline polymers : holographic storage, digital storage, and holographic optical components / Klaus Anderle and Joachim H. Wendorff --
Azimuthal alignment photocontrol of liquid crystals / Kunihiro Ichimura --
Electronic structure and UV absorption spectra of permethylated silicon chains / Harald S. Plitt, John W. Downing, Hiroyuki Teramae, Mary Katherine Raymond, and Josef Michl --
Electronic properties of polysilanes / R.G. Kepler and Z.G. Soos --
UV photoelectron spectroscopy of polysilanes and polygermanes / Kazuhiko Seki, Akira Yuyama, Satoru Narioka, Hisao Ishii, Shinji Hasegawa, Hiroaki Isaka, Masaie Fujino, Michiya Fujiki, and Nobuo Matsumoto --
Radical ions of polysilynes / Akira Watanabe, Minoru Matsuda, Yoichi Yoshida, and Seiichi Tagawa --
Optical properties of silicon-based polymers with different backbone structures / Katsunori Suzuki, Yoshihiko Kanemitsu, Soichiro Kyushin, and Hideyuki Matsumoto --
Synthesis and properties of polysilanes prepared by ring-opening polymerization / Eric Fossum and Krzysztof Matyjaszewski --
New synthesis and functionalization of photosensitive poly(silyl ether) by addition reaction of bisepoxide with dichlorosilane / Atsushi Kameyama, Nobuyuki Hayashi, and Tadatomi Nishikubo.





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی