دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
دانلود کتاب فرآیندهای پلاسما برای ساخت نیمه هادی
مشخصات کتاب
Plasma Processes for Semiconductor Fabrication
ویرایش:
نویسندگان: W. N. G. Hitchon
سری:
ISBN (شابک) : 9780521018005, 0521018005
ناشر: Cambridge University Press
سال نشر:
تعداد صفحات: 231
زبان: English
فرمت فایل : DJVU (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 2 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 30,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Plasma Processes for Semiconductor Fabrication به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب فرآیندهای پلاسما برای ساخت نیمه هادی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب فرآیندهای پلاسما برای ساخت نیمه هادی
پردازش پلاسما یک تکنیک مرکزی در ساخت دستگاه های نیمه هادی است. این کتاب خود شامل شرح به روزی از اچ پلاسما و رسوب در ساخت نیمه هادی است. فیزیک و شیمی اولیه این فرآیندها را ارائه می‌کند و نشان می‌دهد که چگونه می‌توان آنها را به دقت مدل‌سازی کرد. نویسنده با مروری بر راکتورهای پلاسما شروع می کند و مدل های مختلف برای درک فرآیندهای پلاسما را مورد بحث قرار می دهد. سپس شیمی پلاسما را پوشش می‌دهد و به تأثیرات مواد شیمیایی مختلف بر روی ویژگی‌های حک‌شده می‌پردازد. او پس از ارائه مطالب پس‌زمینه مربوطه، مدل‌سازی سیستم‌های پلاسمایی پیچیده را با اشاره به نتایج تجربی به تفصیل شرح می‌دهد. کتاب با واژه نامه مفیدی از اصطلاحات فنی پایان می یابد. هیچ دانش قبلی از فیزیک پلاسما در کتاب فرض نشده است. این شامل بسیاری از تمرینات مشق شب است و به عنوان مقدمه ای ایده آل برای پردازش پلاسما و فناوری برای دانشجویان فارغ التحصیل رشته مهندسی برق و علم مواد عمل می کند. همچنین مرجع مفیدی برای مهندسان شاغل در صنعت نیمه هادی خواهد بود.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Plasma processing is a central technique in the fabrication of semiconductor devices. This self-contained book provides an up-to-date description of plasma etching and deposition in semiconductor fabrication. It presents the basic physics and chemistry of these processes, and shows how they can be accurately modeled. The author begins with an overview of plasma reactors and discusses the various models for understanding plasma processes. He then covers plasma chemistry, addressing the effects of different chemicals on the features being etched. Having presented the relevant background material, he then describes in detail the modeling of complex plasma systems, with reference to experimental results. The book closes with a useful glossary of technical terms. No prior knowledge of plasma physics is assumed in the book. It contains many homework exercises and serves as an ideal introduction to plasma processing and technology for graduate students of electrical engineering and materials science. It will also be a useful reference for practicing engineers in the semiconductor industry.
نظرات کاربران
کتاب های تصادفی
دانلود کتاب Traumatic Affect
دانلود کتاب Python Interview Questions
دانلود کتاب Law, State, and Society in Modern Iran: Constitutionalism, Autocracy, and Legal Reform, 1906–1941
دانلود کتاب Pratiquer L'orthophonie. Experiences et savoir-faire de 33 orthophonistes
