دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: فیزیک پلاسما ویرایش: نویسندگان: Dennis M. Manos and Daniel L. Flamm (Eds.) سری: Plasma: materials interactions ISBN (شابک) : 9780124693708, 0124693709 ناشر: Academic Press سال نشر: 1989 تعداد صفحات: 478 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 7 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Plasma Etching. An Introduction به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب اچ پلاسما. یک مقدمه نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
Content:
Plasma–Materials Interactions, Page ii
Front Matter, Page iii
Copyright, Page iv
Contributors, Page ix
Preface, Pages xi-xii, Dennis M. Manos, Daniel L. Flamm
1 - Plasma Etching Technology—An Overview, Pages 1-89, Daniel L. Flamma, G. Kenneth Herb
2 - Introduction to Plasma Chemistry, Pages 91-183, Daniel L. Flamm
3 - An Introduction to Plasma Physics for Materials Processing, Pages 185-258, Samuel A. Cohen
4 - Diagnostics of Plasmas for Materials Processing, Pages 259-337, D.M. Manos, H.F. Dylla
5 - Plasma Etch Equipment and Technology, Pages 339-389, Alan R. Reinberg
6 - Ion Beam Etching, Pages 391-423, James M.E. Harper
7 - Safety, Health, and Engineering Considerations for Plasma Processing, Pages 425-470, G.K. Herb
Index, Pages 471-476
Plasma–Materials Interactions, Page 477