ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography

دانلود کتاب طراحی بدنی و سنتز ماسک برای لیتوگرافی خود مونتاژ مستقیم

Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography

مشخصات کتاب

Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography

ویرایش: [1st ed.] 
نویسندگان:   
سری: NanoScience and Technology 
ISBN (شابک) : 9783319762937, 9783319762944 
ناشر: Springer International Publishing 
سال نشر: 2018 
تعداد صفحات: XIV, 138
[144] 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 12 Mb

قیمت کتاب (تومان) : 31,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 3


در صورت تبدیل فایل کتاب Physical Design and Mask Synthesis for Directed Self-Assembly Lithography به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب طراحی بدنی و سنتز ماسک برای لیتوگرافی خود مونتاژ مستقیم نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب طراحی بدنی و سنتز ماسک برای لیتوگرافی خود مونتاژ مستقیم



این کتاب در مورد طراحی فیزیکی و سنتز ماسک لیتوگرافی خود مونتاژی جهت دار (DSAL) بحث می کند. این پیشینه اساسی فناوری DSAL، بهینه‌سازی‌های طراحی فیزیکی مانند قرار دادن و اضافی از طریق درج، و سنتز ماسک DSAL و همچنین تأیید آن را پوشش می‌دهد. لیتوگرافی خود مونتاژ مستقیم (DSAL) یک راه حل الگوبرداری بسیار امیدوارکننده در فناوری زیر 7 نانومتر است.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This book discusses physical design and mask synthesis of directed self-assembly lithography (DSAL). It covers the basic background of DSAL technology, physical design optimizations such as placement and redundant via insertion, and DSAL mask synthesis as well as its verification. Directed self-assembly lithography (DSAL) is a highly promising patterning solution in sub-7nm technology.





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی