مشخصات کتاب

Optical Lithography: Here is Why

ویرایش:  
نویسندگان: Burn J. Lin  
سری: SPIE Press Monograph Vol. PM190 
ISBN (شابک) : 0819475602, 9780819475602 
ناشر: SPIE Press 
سال نشر: 2010 
تعداد صفحات: 473 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 31 مگابایت 

در صورت تبدیل فایل کتاب Optical Lithography: Here is Why به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب لیتوگرافی نوری: در اینجا چرا است نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب لیتوگرافی نوری: در اینجا چرا است

هدف این کتاب مهندسین، مدیران فناوری، و تکنسین های ارشد جدید و با تجربه است که می خواهند درک خود را از فیزیک تشکیل تصویر یک سیستم لیتوگرافی غنی کنند. خوانندگان از معادلات و ثابت‌های اساسی که لیتوگرافی نوری را هدایت می‌کنند، اطلاعات اولیه سیستم‌های نوردهی و شکل‌گیری تصویر را یاد می‌گیرند و با درک کامل اجزای سیستم، پردازش و بهینه‌سازی دست خواهند یافت. خوانندگان همچنین مقدمه ای در مورد چشم انداز لیتوگرافی نوری و بسیاری از فناوری های نسل بعدی خواهند داشت که ممکن است در آینده ای نزدیک تولید نیمه هادی را تا حد زیادی افزایش دهند.

موضوعات عبارتند از:

- سیستم های نوردهی
- تشکیل تصویر
- متر لیتوگرافی
- اجزاء در لیتوگرافی نوری
- پردازش و بهینه سازی
- لیتوگرافی غوطه وری
- چشم انداز لیتوگرافی نوری

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This book is aimed at new and experienced engineers, technology managers, and senior technicians who want to enrich their understanding of the image formation physics of a lithographic system. Readers will gain knowledge of the basic equations and constants that drive optical lithography, learn the basics of exposure systems and image formation, and come away with a full understanding of system components, processing, and optimization. Readers will also get a primer on the outlook of optical lithography and the many next-generation technologies that may greatly enhance semiconductor manufacturing in the near future.

Topics include:

- Exposure Systems
- Image Formation
- The Meter of Lithography
- Components in Optical Lithography
- Processing and Optimization
- Immersion Lithography
- Outlook for optical lithography

نظرات کاربران

کتاب های تصادفی

دانلود کتاب E-Business and Telecommunications: International Joint Conference, ICETE 2013, Reykjavik, Iceland, July 29-31, 2013, Revised Selected Papers

دانلود کتاب Historians, State and Politics in Twentieth Century Egypt: Contesting the Nation (Islamic Studies Series)

دانلود کتاب Inequalities Based on Sobolev Representations

دانلود کتاب Myocardial viability: Detection and clinical relevance

دانلود کتاب Reporter der Holle. Die Propaganda-Kompanien im 2. Weltkrieg