مشخصات کتاب

Optical Lithography: Here is Why, Second Edition

ویرایش: 2 
نویسندگان: Burn J. Lin  
سری:  
ISBN (شابک) : 1510639950, 9781510639959 
ناشر: SPIE--The International Society for Optical Engineering 
سال نشر: 2021 
تعداد صفحات: 576 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 42 مگابایت 

در صورت تبدیل فایل کتاب Optical Lithography: Here is Why, Second Edition به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب لیتوگرافی نوری: در اینجا چرا، ویرایش دوم نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب لیتوگرافی نوری: در اینجا چرا، ویرایش دوم

این کتاب برای مهندسان، مدیران فناوری و تکنسین های ارشد جدید و با تجربه نوشته شده است که می خواهند درک خود را از فیزیک تشکیل تصویر یک سیستم لیتوگرافی غنی کنند. خوانندگان از معادلات و ثابت‌های اساسی که لیتوگرافی نوری را هدایت می‌کنند، اطلاعاتی کسب می‌کنند، اصول اولیه سیستم‌های نوردهی و شکل‌گیری تصویر را می‌آموزند و با درک کامل اجزای سیستم، پردازش و بهینه‌سازی می‌آیند. خوانندگان همچنین یک دید کلی از چشم انداز لیتوگرافی نوری و ابزارهای تقویت تولید نیمه هادی دریافت خواهند کرد. این ویرایش دوم تجربه منحصر به فرد نویسنده را در تحقیق، تدریس و تولید با حجم بالا در سطح جهانی ترکیب می‌کند تا مواد کاملاً جدید در چاپ مجاورتی، و همچنین مطالب به روز شده و گسترش یافته در مورد سیستم‌های نوردهی، شکل‌گیری تصویر، روش E-D، اجزای سخت‌افزاری، پردازش و بهینه سازی، و EUV و لیتوگرافی غوطه وری.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This book is written for new and experienced engineers, technology managers, and senior technicians who want to enrich their understanding of the image formation physics of a lithographic system. Readers will gain knowledge of the basic equations and constants that drive optical lithography, learn the basics of exposure systems and image formation, and come away with a full understanding of system components, processing, and optimization. Readers will also get an overview of the outlook of optical lithography and means to enhance semiconductor manufacturing. This second edition blends the author’s unique experience in research, teaching, and world-class high-volume manufacturing to add brand new material on proximity printing, as well as updated and expanded material on exposure systems, image formation, E-D methodology, hardware components, processing and optimization, and EUV and immersion lithographies.

فهرست مطالب

cover
Contents
Preface to the Second Edition
Chapter 1 Introduction
Chapter 2 Proximity Printing
Chapter 3 Exposure Systems
Chapter 4 Image Formation
Chapter 5 The Metrics of Lithography
Chapter 6 Hardware Components in Optical Lithography
Chapter 7 Processing and Optimization
Chapter 8 Immersion Lithography
Chapter 9 EUV Lithography
Appendix A Methods to Evaluate the Region of Validity Based on Lithography Applications
Index

نظرات کاربران

کتاب های تصادفی

دانلود کتاب Master Your Next Move, with a New Introduction

دانلود کتاب Der gezähmte Konflikt: Zur Interessenverarbeitung durck Verbände und Parteien am Beispiel der Wirtschaftsentwicklung und Wirtschaftspolitik in der Bundesrepublik (1966 biss 1976)

دانلود کتاب Alcala Zamora and the Failure of the Spanish Republic, 1931-1936

دانلود کتاب The Fairy Tale: The Magic Mirror of Imagination

دانلود کتاب The Lofts of SoHo: Gentrification, Art, and Industry in New York, 1950–1980