دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Optical Imaging in Projection Microlithography
دانلود کتاب تصویربرداری نوری در میکرولیتوگرافی پروجکشن
مشخصات کتاب
Optical Imaging in Projection Microlithography
ویرایش: illustrated edition
نویسندگان: Alfred Kwok-Kit Wong
سری: SPIE Tutorial Texts in Optical Engineering TT66
ISBN (شابک) : 0819458295, 9780819478702
ناشر: SPIE Press
سال نشر: 2005
تعداد صفحات: 242
زبان: English
فرمت فایل : DJVU (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 5 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 33,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Optical Imaging in Projection Microlithography به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تصویربرداری نوری در میکرولیتوگرافی پروجکشن نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب تصویربرداری نوری در میکرولیتوگرافی پروجکشن
در اینجا برای اولین بار یک نمای ریاضی یکپارچه از فیزیک و مدل‌سازی عددی لیتوگرافی پیش‌بینی نوری وجود دارد که به طور موثر طیف کامل مفاهیم مهم را پوشش می‌دهد. آلفرد وانگ زیربنای دقیق، وضوح در فرمول بندی سیستماتیک، بینش فیزیکی ایده های در حال ظهور، و همچنین نمای سطح سیستم از تحمل پارامترهای مورد نیاز در تولید را ارائه می دهد. خوانندگان با دانش کاری خوب از حساب دیفرانسیل و انتگرال می توانند توسعه گام به گام را دنبال کنند و فناوران می توانند مفاهیم کلی و معادلات کلیدی حاصل را جمع آوری کنند. حتی خواننده معمولی نیز دیدگاهی در مورد مفاهیم کلیدی به دست خواهد آورد، که احتمالا به تسهیل گفت و گو بین فناوران کمک خواهد کرد. منابع محدود - وضوح و تقویت تصویر - پرتوهای مایل - انحرافات - محاسبات عددی - متغیرها - ضمیمه A: انکسار دوگانه - پیوست B: ایستایی و ارگودیسیته - ضمیمه C: برخی از چندجمله‌ای Zernike - پیوست D: شبیه‌ساز دقت تست: E انتخاب مجدد - فرستنده - ضمیمه F: قضایای مختلف و هویت - کتابشناسی - راه حل تمرینها - فهرست
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Here for the first time is an integrated mathematical view of the physics and numerical modeling of optical projection lithography that efficiently covers the full spectrum of the important concepts. Alfred Wong offers rigorous underpinning, clarity in systematic formulation, physical insight into emerging ideas, as well as a system level view of the parameter tolerances required in manufacturing. Readers with a good working knowledge of calculus can follow the step-by-step development, and technologists can gather general concepts and the key equations that result. Even the casual reader will gain a perspective on the key concepts, which will likely help facilitate dialog among technologists.Contents - Foreword - Preface - List of Symbols - Basic Electromagnetism - Elements of Geometrical Optics - Elements of Diffraction Theory - Imaging of Extended Objects with Finite Sources - Resolution and Image Enhancement - Oblique Rays - Aberrations - Numerical Computation - Variabilities - Appendix A: Birefringence - Appendix B: Stationarity and Ergodicity - Appendix C: Some Zernike Polynomials - Appendix D: Simulator Accuracy Tests - Appendix E: Select Refractive Indexes - Appendix F: Assorted Theorems and Identities - Bibliography - Solutions to Exercises - Index
