دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: فیزیک ویرایش: 1st نویسندگان: Irving P. Herman سری: ISBN (شابک) : 9780123420701, 0123420709 ناشر: Academic Press سال نشر: 1995 تعداد صفحات: 815 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 38 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Optical Diagnostics for Thin Film Processing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تشخیص نوری برای پردازش فیلم نازک نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این جلد نقش فزاینده تشخیص نوری درجا را در پردازش لایه نازک برای کاربردهای مختلف از مطالعات علوم بنیادی گرفته تا توسعه فرآیند تا کنترل در حین ساخت توصیف میکند. مزیت کلیدی تشخیص نوری در این کاربردها این است که معمولاً غیر تهاجمی و غیر نفوذی هستند. پروب های نوری سطح، فیلم، ویفر و گاز بالای ویفر برای بسیاری از فرآیندها، از جمله اچ پلاسما، MBE، MOCVD، و پردازش حرارتی سریع توضیح داده شده است. برای هر تکنیک نوری، اصول اساسی ارائه میشود، حالتهای اجرای آزمایشی توصیف میشوند، و کاربردهای تشخیصی در پردازش لایه نازک، با مثالهایی از میکروالکترونیک و اپتوالکترونیک، تحلیل میشوند. توجه ویژه ای به کاوش در زمان واقعی سطح، به اندازه گیری غیرتهاجمی دما، و استفاده از پروب های نوری برای کنترل فرآیند می شود. تشخیص نوری برای پردازش لایه نازک منحصر به فرد است. هیچ جلد دیگری کاربرد بلادرنگ تکنیک های نوری را در همه حالت های پردازش لایه نازک بررسی نمی کند. این متن می تواند توسط دانش آموزان و افراد تازه وارد به عنوان مقدمه و بررسی موضوع مورد استفاده قرار گیرد. همچنین به عنوان یک منبع جامع برای مهندسان، تکنسین ها، محققان و دانشمندانی که در حال حاضر در این زمینه کار می کنند، عمل می کند.
This volume describes the increasing role of in situ optical diagnostics in thin film processing for applications ranging from fundamental science studies to process development to control during manufacturing. The key advantage of optical diagnostics in these applications is that they are usually noninvasive and nonintrusive. Optical probes of the surface, film, wafer, and gas above the wafer are described for many processes, including plasma etching, MBE, MOCVD, and rapid thermal processing. For each optical technique, the underlying principles are presented, modes of experimental implementation are described, and applications of the diagnostic in thin film processing are analyzed, with examples drawn from microelectronics and optoelectronics. Special attention is paid to real-time probing of the surface, to the noninvasive measurement of temperature, and to the use of optical probes for process control.Optical Diagnostics for Thin Film Processing is unique. No other volume explores the real-time application of optical techniques in all modes of thin film processing. The text can be used by students and those new to the topic as an introduction and review of the subject. It also serves as a comprehensive resource for engineers, technicians, researchers, and scientists already working in the field.