Nanoscaled Semiconductor-on-Insulator Structures and Devices

این مجموعه مقالات آرشیوی از مشارکت سخنرانان کلیدی است که در کارگاه تحقیقاتی پیشرفته ناتو در مورد "ساختارها و دستگاه های نیمه هادی روی عایق نانومقیاس" که در مرکز گردشگری و تفریحی "Sudak" (کریمه، اوکراین) برگزار شد، شرکت کردند. ) از 15 تا 19 اکتبر 2006. صنعت نیمه هادی در طول سه دهه گذشته از طریق پیشرفت های فن آوری چشمگیر که منجر به تولید محصولات با عملکرد بالاتر و هزینه کمتر برای هر عملکرد شده است، رشد بسیار سریعی را حفظ کرده است. پس از سال ها توسعه، اکنون با اطمینان پیش بینی می شود که مواد نیمه هادی روی عایق وارد صنعت تولید شده و به طور فزاینده ای مورد استفاده قرار می گیرند. استفاده گسترده تر از نیمه هادی ها (مخصوصاً سیلیکون) در مواد عایق، نه تنها مزایای این مواد را نشان می دهد، بلکه هزینه زیرلایه ها را نیز کاهش می دهد که به نوبه خود، توسعه سایر دستگاه های جدید را تحریک می کند. و برنامه های کاربردی بنابراین، مواد نیمه هادی روی عایق امروزی نه تنها پایه ای برای میکروالکترونیک مدرن هستند، بلکه برای دستگاه ها و آی سی های آینده در مقیاس نانو نیز هستند. این روند به خودی خود ترویج مهارت ها و ایده های تولید شده توسط محققان در اتحاد جماهیر شوروی سابق و اروپای شرقی را تشویق می کند. در واقع، یکی از اهداف این کارگاه ترویج توسعه فناوری های SOI در سراسر جهان است.

This proceedings volume constitutes an archive of the contributions of the key-speakers who attended the NATO Advanced Research Workshop on “Nanoscaled Semiconductor-On-Insulator Structures and devices” held in the Tourist and Recreation Centre “Sudak” (Crimea, Ukraine) from 15 to 19 October 2006. The semiconductor industry has sustained a very rapid growth during the last three decades through impressive technological developments which have resulted in products with higher performance and lower cost per function. After many years of development it is now confidently predicted that semiconductor-on-insulator materials will enter and increasingly be used by manufacturing industry. The wider use of semiconductor (es- cially silicon) on insulator materials will not only enable the benefits of these materials to be demonstrated but, also, will drive down the cost of substrates which, in turn, will stimulate the development of other novel devices and applications. Thus the semiconductor-on-insulator materials of today are not only the basis for modern microelectronics but also for future nanoscale devices and ICs. In itself this trend will encourage the promotion of the skills and ideas generated by researchers in the Former Soviet Union and Eastern Europe. Indeed, one of the goals of this Workshop is to promote the development of SOI technologies worldwide.