دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1
نویسندگان: M. Feldman (Eds.)
سری: Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials
ISBN (شابک) : 9780857095008
ناشر: Woodhead Publishing
سال نشر: 2014
تعداد صفحات: 588
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 41 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Nanolithography. The Art of Fabricating Nanoelectronic and Nanophotonic Devices and Systems به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب نانولیتوگرافی. هنر ساخت دستگاه ها و سیستم های نانو الکترونیکی و نانوفوتونیک نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
Content:
Front matter, Pages i-iii
Copyright, Page iv
Contributor contact details, Pages xiii-xvi, Martin Feldman, Bruce W. Smith, Bryan J. Rice, Timothy R. Groves, Mark Utlaut, Emily Gallagher, Michael Hibbs, Michael Walsh, Feng Zhang, Rajesh Menon, Henry I. Smith, Anthony Novembre, Sen Liu, Shinji Matsui, Mikihito Takenaka, Hiroshi Yoshida, Doug Resnick, Xing Cheng, Pouya Dastmalchi, Ali Haddadpour, Georgios Veronis, et al.
Woodhead Publishing Series in Electronic and Optical Materials, Pages xvii-xxi
Preface, Pages xxiii-xxiv, M. Feldman
1 - Optical projection lithography, Pages 1-41, B.W. Smith
2 - Extreme ultraviolet (EUV) lithography, Pages 42-79, B.J. Rice
3 - Electron beam lithography, Pages 80-115, T.R. Groves
4 - Focused ion beams for nano-machining and imaging, Pages 116-157, M. Utlaut
5 - Masks for micro- and nanolithography, Pages 158-178, E. Gallagher, M. Hibbs
6 - Maskless photolithography, Pages 179-193, M.E. Walsh, F. Zhang, R. Menon, H.I. Smith
7 - Chemistry and processing of resists for nanolithography, Pages 194-286, A. Novembre, S. Liu
8 - Directed assembly nanolithography, Pages 287-314, S. Matsui, M. Takenaka, H. Yoshida
9 - Nanoimprint lithography, Pages 315-347, D. Resnick
10 - Nanostructures: fabrication and applications, Pages 348-375, X. Cheng
11 - Nanophotonics: devices for manipulating light at the nanoscale, Pages 376-398, P. Dastmalchi, A. Haddadpour, G. Veronis
12 - Nanodevices: fabrication, prospects for low dimensional devices and applications, Pages 399-423, T. Daniels-Race
13 - Microfluidics: technologies and applications, Pages 424-443, L. Jiang, N.S. Korivi
14 - Modeling of nanolithography processes, Pages 444-465, A. Isoyan, L.S. Melvin III
15 - Mask-substrate alignment via interferometric moiré fringes, Pages 466-502, E.E. Moon
16 - Sidewall roughness in nanolithography: origins, metrology and device effects, Pages 503-537, V. Constantoudis, E. Gogolides, G.P. Patsis
17 - New applications and emerging technologies in nanolithography, Pages 538-550, F. Yesilkoy, C. Ropp, Z. Cummins, R. Probst, E. Waks, B. Shapiro, M. Peckerar
Index, Pages 551-573