دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: Martin Feldman
سری: Woodhead Publishing series in electronic and optical materials
ISBN (شابک) : 9780857098757, 0857098756
ناشر: Woodhead Publishing
سال نشر: 2014
تعداد صفحات: 551
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 40 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Nanolithography : the art of fabricating nanoelectronics, nanophotonics and nanobiology devices and systems به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب نانو سنگی: هنر ساخت دستگاهها و سیستمهای نانوالکترونیک، نانو فوتونیک و نانوبیولوژی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
مدارهای مجتمع، و دستگاههایی که با استفاده از تکنیکهای توسعهیافته برای مدارهای مجتمع ساخته میشوند، بهطور پیوسته کوچکتر، پیچیدهتر و قدرتمندتر شدهاند. سرعت انقباض حیرتانگیز است – برخی از اجزا اکنون تنها چند ده اتم عرض دارند. این کتاب تلاش میکند به این سؤال پاسخ دهد: «بعد چه میشود؟ و «چگونه به آنجا برسیم؟ نانو سنگی وضعیت کنونی هنر را در تکنیکهای لیتوگرافی، از جمله نمایش نوری در پرتوهای فرابنفش عمیق و شدید، پرتوهای الکترونی و یونی و چاپ نشان میدهد. توجه ویژهای به مسائل مرتبط، مانند مقاومتهای مورد استفاده در لیتوگرافی، ماسکها (یا عدم وجود آن)، اندازهشناسی مورد نیاز برای ویژگیهای نانو، مدلسازی، و محدودیتهای ناشی از ناهمواری لبههای ویژگی میشود. علاوه بر این، فنآوریهای نوظهور، از جمله مونتاژ هدایتشده ویژگیهای ویفر، نانوساختارها و دستگاهها، نانو فوتونیک و نانو سیال توصیف شدهاند. این کتاب به عنوان راهنمایی برای محققین تازه وارد در این زمینه، مطالعه مجلات مرتبط یا مواجهه با پیچیدگی های یک کنفرانس فنی در نظر گرفته شده است. هدف آن ارائه اطلاعات پس زمینه کافی است تا چنین محققی را قادر سازد تا پیشرفت های جدید در نانولیتوگرافی را درک و درک کند و به پیشرفت های خود ادامه دهد. تشریح وضعیت فعلی هنر در فناوریهای نانولیتوگرافی جایگزین به منظور مقابله با کاهش آینده در اندازه تراشههای نیمهرسانا به ابعاد نانو. کاربردهای نوظهور نانولیتوگرافی در نانوالکترونیک، نانوفوتونیک و میکروسیالات
Integrated circuits, and devices fabricated using the techniques developed for integrated circuits, have steadily gotten smaller, more complex, and more powerful. The rate of shrinking is astonishing – some components are now just a few dozen atoms wide. This book attempts to answer the questions, “What comes next? and “How do we get there? Nanolithography outlines the present state of the art in lithographic techniques, including optical projection in both deep and extreme ultraviolet, electron and ion beams, and imprinting. Special attention is paid to related issues, such as the resists used in lithography, the masks (or lack thereof), the metrology needed for nano-features, modeling, and the limitations caused by feature edge roughness. In addition emerging technologies are described, including the directed assembly of wafer features, nanostructures and devices, nano-photonics, and nano-fluidics. This book is intended as a guide to the researcher new to this field, reading related journals or facing the complexities of a technical conference. Its goal is to give enough background information to enable such a researcher to understand, and appreciate, new developments in nanolithography, and to go on to make advances of his/her own. Outlines the current state of the art in alternative nanolithography technologies in order to cope with the future reduction in size of semiconductor chips to nanoscale dimensions Covers lithographic techniques, including optical projection, extreme ultraviolet (EUV), nanoimprint, electron beam and ion beam lithography Describes the emerging applications of nanolithography in nanoelectronics, nanophotonics and microfluidics
Optical projection lithography; Extreme ultraviolet (EUV) lithography; Electron beam lithography; Focused ion beams for nano-machining and imaging; Masks for micro- and nanolithography; Maskless photolithography; Chemistry and processing of resists for nanolithography; Directed assembly nanolithography; Nanoimprint lithography; Nanostructures: Fabrication and applications; Nanophotonics: Devices for manipulating light at the nanoscale; Nanodevices: Fabrication, prospects for low dimensional devices and applications; Microfluidics: Fabrication technologies, interconnect approaches and applications; Modeling of nanolithography processes; Mask-substrate alignment via interferometric moiré fringes; Sidewall roughness in nanolithography: Origins, metrology and device effects; New applications and emerging technologies in nanolithography.