دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1st ed.
نویسندگان: Tatsuya Shimoda
سری:
ISBN (شابک) : 9789811329524, 9789811329531
ناشر: Springer Singapore
سال نشر: 2019
تعداد صفحات: 594
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 36 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب فرآیندهای نانو مایع برای دستگاه های الکترونیکی: توسعه مواد مایع کاربردی غیر آلی و پردازش آنها: علم مواد، سطوح و واسط ها، لایه های نازک، شیمی فیزیک، الکترونیک و میکروالکترونیک، ابزار دقیق، نیمه هادی ها، مهندسی صنایع و تولید
در صورت تبدیل فایل کتاب Nanoliquid Processes for Electronic Devices: Developments of Inorganic Functional Liquid Materials and Their Processing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب فرآیندهای نانو مایع برای دستگاه های الکترونیکی: توسعه مواد مایع کاربردی غیر آلی و پردازش آنها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب خلاصه ای از نتایج تحقیق در مورد چگونگی ساخت دستگاه های الکترونیکی کوچک با خواص بالا با استفاده از فرآیندهای مایع ساده مانند پوشش، خود مونتاژ و چاپ، به ویژه تمرکز بر دستگاه های متشکل از مواد سیلیکونی و اکسیدی است. این سنتز و تجزیه و تحلیل مواد محلول، تشکیل لایههای نازک جامد از محلولها، روشهای الگوسازی جدید توسعهیافته برای ساخت دستگاهها، و خصوصیات دستگاههای توسعهیافته را توصیف میکند.
در قسمت اول کتاب، تحقیق در مورد مواد سیلیکون مایع (Si) شرح داده شده است. از آنجایی که استفاده از مواد مایع یک ایده کاملاً جدید برای دستگاههای Si است، این کتاب اولین کتابی است که مواد Si مایع را برای دستگاههای الکترونیکی توصیف میکند. دستگاه های Si که توسط MOS-FET مشخص می شود با استفاده از مواد جامد و گاز تولید شده اند. این جلد دقیقاً مجموعهای از فرآیندها از سنتز مواد تا ساخت دستگاه را برای کسانی که علاقهمند هستند و در کارهای مرتبط با Si مایع مشغول هستند/خواهند توصیف میکند. در قسمت آخر کتاب، یک روش کلی در مورد چگونگی ساخت فیلم های اکسیدی خوب از محلول ها و یک روش جدید چاپ برای ساختن الگوهای در اندازه نانو معرفی شده است. برای ساخت فیلم های اکسیدی با کیفیت بالا، طراحی محلول بسیار مهم است. اگر یک محلول به درستی طراحی شود، میتوان یک ماده ژلی به نام \"ژل خوشهای\" ایجاد کرد که میتواند برای ایجاد الگوهای نانو اندازه چاپ شود.
خوانندگان مورد انتظار این مقاله هستند. کتاب محققین، مهندسان و
دانشجویانی هستند که به حل و فرآیندهای چاپ برای ساخت دستگاه ها
علاقه مند هستند. به طور کلی، این کتاب همچنین دستورالعمل هایی
را برای مدیران و مدیران شرکتی که مسئول ایجاد استراتژی برای
فرآیندهای تولید آینده هستند، ارائه می دهد.
</ p>
This book summarizes the results of the research on how to make small electronic devices with high properties by using simple liquid processes such as coating, self-assembling and printing, especially focusing on devices composed of silicon and oxide materials. It describes syntheses and analyses of solution materials, formations of solid thin films from solutions, newly developed patterning methods to make devices, and characterization of the developed devices.
In the first part of the book, the research on liquid silicon (Si) materials is described. Because the use of a liquid material is a quite new idea for Si devices, this book is the first one to describe liquid Si materials for electronic devices. Si devices as typified by MOS-FET have been produced by using solid and gas materials. This volume precisely describes a series of processes from material synthesis to device fabrication for those who are interested and are/will be engaged in liquid Si-related work. In the latter part of the book, a general method of how to make good oxide films from solutions and a new imprinting method to make nanosized patterns are introduced. For making oxide films with high quality, the designing of the solution is crucial. If a solution is designed properly, a gel material called "cluster gel" can be formed which is able to be imprinted to form nanosized patterns.
The anticipated readers of this book are researchers,
engineers, and students who are interested in solution and
printing processes for making devices. More generally, this
book will also provide guidelines for corporate managers and
executives who are responsible for making strategies for
future manufacturing processes.
Front Matter ....Pages i-xvi
Front Matter ....Pages 1-1
Liquid Process (Tatsuya Shimoda)....Pages 3-11
Front Matter ....Pages 13-13
Guide to Silicon-Based Materials (Tatsuya Shimoda)....Pages 15-19
Liquid Silicon (Tatsuya Shimoda)....Pages 21-34
Thin Film Formation by Coating (Tatsuya Shimoda)....Pages 35-51
Liquid Vapor Deposition Using Liquid Silicon (LVD) (Tatsuya Shimoda)....Pages 53-69
Liquid Silicon Family Materials(1): SiO2, CoSi2, and Al (Tatsuya Shimoda)....Pages 71-91
Liquid Silicon Family Materials(2): SiC (Tatsuya Shimoda)....Pages 93-136
Nano-pattern Formation Using Liquid Silicon (Tatsuya Shimoda)....Pages 137-170
Development of Solar Cells Using Liquid Silicon (Tatsuya Shimoda)....Pages 171-188
Development of Thin-Film Transistors Using Liquid Silicon (Tatsuya Shimoda)....Pages 189-217
Front Matter ....Pages 219-219
Guide to Oxide-Based Materials (Tatsuya Shimoda)....Pages 221-224
Improvement of Solid Through Improved Solutions and Gels (1): Utilization of Reduction Agent and Reduced Atmosphere (Tatsuya Shimoda)....Pages 225-276
Improvement of Solid Through Improved Solutions and Gels (2): The Other Methods (Tatsuya Shimoda)....Pages 277-308
Direct Imprinting of Gel (Nano-rheology Printing) (Tatsuya Shimoda)....Pages 309-374
Novel Materials Proper to Liquid Process (Tatsuya Shimoda)....Pages 375-416
Thin-Film Oxide Transistor by Liquid Process (1): FGT (Ferroelectric Gate Thin-Film Transistor) (Tatsuya Shimoda)....Pages 417-439
Thin-Film Oxide Transistor by Liquid Process (2): UV and Solvothermal Treatments for TFT Fabrication (Tatsuya Shimoda)....Pages 441-505
Thin-Film Oxide Transistor by Liquid Process (3): TFTs with ZrInZnO Channel (Tatsuya Shimoda)....Pages 507-547
Device Fabrication by n-RP (Tatsuya Shimoda)....Pages 549-590