مشخصات کتاب

Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications

ویرایش:  
نویسندگان: Stephen Rossnagel (Eds.)  
سری: Thin Films 22 
ISBN (شابک) : 9780125330220 
ناشر: Academic Press,  Elsevier 
سال نشر: 1996 
تعداد صفحات: 1-290
[294] 
زبان:  
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 27 Mb 

در صورت تبدیل فایل کتاب Modeling of Film Deposition for Microelectronic Applications به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب مدل سازی رسوب فیلم برای کاربردهای میکروالکترونیک نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب مدل سازی رسوب فیلم برای کاربردهای میکروالکترونیک

فیزیک لایه‌های نازک یکی از طولانی‌ترین مجموعه‌های مستمر در علم لایه‌های نازک است که از 22 جلد از سال 1963 تشکیل شده است. این مجموعه شامل مطالعات کیفی درباره خواص مواد و سیستم‌های مختلف لایه‌های نازک است. این مجموعه برای اینکه بتواند توسعه علم امروز را منعکس کند و تمام جنبه های مدرن فیلم های نازک را پوشش دهد، با شروع جلد 20، از فیزیک اولیه فیلم های نازک فراتر رفته است. اکنون به مهم‌ترین جنبه‌های لایه‌های نازک معدنی و آلی، هم در جنبه‌های نظری و هم از جنبه‌های فنی آن‌ها می‌پردازد. بنابراین، به منظور انعکاس مشکلات مدرن تکنولوژی محور، عنوان از فیزیک لایه های نازک به لایه های نازک کمی تغییر یافته است.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Physics of Thin Films is one of the longest running continuing series in thin film science, consisting of 22 volumes since 1963. The series contains quality studies of the properties of various thin filmsmaterials and systems. In order to be able to reflect the development of today\'s science and to cover all modern aspects of thin films, the series, starting with Volume 20, has moved beyond the basic physics of thin films. It now addresses the most important aspects of both inorganic and organic thin films, in both their theoretical as well as technological aspects. Therefore, in order to reflect the modern technology-oriented problems, the title has been slightly modified from Physics of Thin Films to Thin Films.

فهرست مطالب

Content: 
Contributors
Page ix

Preface
Pages xi-xiv
Stephen Rossnagel

Thin film microstructure and process simulation using SIMBAD Original Research Article
Pages 1-79
Michael J. Brett, Steven K. Dew, Tom J. Smy

Mathematical methods for thin film deposition simulations Original Research Article
Pages 81-115
S. Hamaguchi

A process model for sputter deposition of thin films using molecular dynamics Original Research Article
Pages 117-173,IN1-IN3
C.-C. Fang, V. Prasad, R.V. Joshi, F. Jones, J.J. Hsieh

Feature scale transport and reaction during low-pressure deposition processes Original Research Article
Pages 175-276
Timothy S. Cale, Vadali Mahadev

Author index
Pages 277-283

Subject index
Pages 285-290

نظرات کاربران

کتاب های تصادفی

دانلود کتاب The Story of FedEx. Built for Success

دانلود کتاب Renal Transplantation - Updates and Advances

دانلود کتاب Flame Spectroscopy: Atlas of Spectral Lines

دانلود کتاب Ler O Capital (vol. 1)

دانلود کتاب Dance As Education: Towards A National Dance Culture (Falmer Press Library on Aesthetic Education Series)