دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Micro- and Nanopatterning Polymers
دانلود کتاب پلیمرهای میکرو و نانو سازنده
مشخصات کتاب
Micro- and Nanopatterning Polymers
ویرایش: نویسندگان: Hiroshi Ito, Elsa Reichmanis, Omkaram Nalamasu, and Takumi Ueno (Eds.) سری: ACS Symposium Series 706 ISBN (شابک) : 9780841235816, 0841235813 ناشر: American Chemical Society سال نشر: 1998 تعداد صفحات: 385 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 29 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 46,000
در صورت ایرانی بودن نویسنده امکان دانلود وجود ندارد و مبلغ عودت داده خواهد شد
در صورت تبدیل فایل کتاب Micro- and Nanopatterning Polymers به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب پلیمرهای میکرو و نانو سازنده نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب پلیمرهای میکرو و نانو سازنده
محتوا: لیتوگرافی با الگوی میکرو دامنه های کوپلیمر بلوکی به
عنوان مقاومت مثبت یا منفی / کریستوفر هریسون، میری پارک، پل ام.
چایکین، ریچارد ای. ریجستر، و داگلاس اچ. آدامسون --
نانوساختارهای معدنی در سطوح با استفاده از الگوهای کوپلیمر
دوبلوک میسلی / یواخیم پی اسپاتز، توماس هرتزوگ، استفان موسمر، پل
زیمان و مارتین مولر --
سنتز پلیمرهای منظم به عنوان پیش ساز کربن بسیار رسانا برای
استفاده در کاربردهای میکرو و نانو سنگی / سی بی گورمن، آر دبلیو
وست، جی.ال. اسنوور، تی.ال. Utz و S.A. Serron --
فلزسازی روی بستر پلی (تترا فلوئورواتیلن) با واکنش سطحی ناشی
از لیزر اگزایمر و آبکاری شیمیایی / Hiroyuki Niino و Akira Yabe
--
یک رویکرد معدنی به فوتولیتوگرافی: رسوب فتولیتوگرافی فیلم های
اکسید فلز دی الکتریک / راس اچ. هیل و شارون ال. بلر --
قالب گیری ریزساختارهای پلیمری / T. Hanemann, V. Piotter, R.
Ruprecht, and J.H. Hausselt --
واحدهای متقابل حساس به اسید: مفهومی برای بهبود مقاومت نوری عمیق
UV / H.-T. Schacht, P. Falcigno, N. Münzel, R. Schulz, and A.
Medina --
شیمی سیستم مقاوم کتال و عملکرد لیتوگرافی آن / وو سونگ هوانگ،
کیم یی لی، رائو بانتو، رانی کوونگ، احمد کتنانی، محمود خجسته،
ویلیام برانسوولد، استیون هولمز، رونالد نونس، تسویوشی شیباتا،
جورج اورسولا، جیمز کامرون، دومینیک یانگ و راجر سینتا --
انتشار فوتوتواسید در مقاومت های DUV تقویت شده شیمیایی / توشیرو
ایتانی، هیروشی یوشینو Shuichi Hashimoto، Mitsuharu Yamana،
Norihiko Samoto، و Kunihiko Kasama --
ترکیبات دیازو بسیار حساس به نور به عنوان مولد اسید فوتو برای
مقاومت های شیمیایی تقویت شده / Kieko Harada، Masahito Kushida،
Kyoichi Saito، Kazuyuki Sugita و Hiro</ > کاوش مکانیسم
های مقاومت شیمیایی تقویت شده و عملکرد در پهنای خط کوچک / جیمز
دبلیو. تیلور، پل ام. دنتینگر، استیون جی راینر و جفری دبلیو.
رینولدز --
تهیه و بررسی معماری های ماکرومولکولی برای میکرولیتوگرافی توسط \
"زندگی" رایگان پلیمریزاسیون دیکال / G.G. بارکلی، ام. کینگ، آ.
اورلانا، پی.آر.ال. Malenfant، R. Sinta، E. Malmstrom، H. Ito، و
C.J. Hawker --
واکنش های تکثیر اسید و کاربرد آنها در تصویربرداری لیتوگرافی
تقویت شده شیمیایی / Kunihiro Ichimura، Koji Arimitsu، Soh
Noguchi و Kazuaki Kudo --< br/> سینتیک حفاظت از سیستم های
مقاوم در برابر پلیمرهای آلی حلقه ای طراحی شده برای لیتوگرافی
ArF (193 نانومتر) / Uzodinma Okoroanyanwu، Jeffrey D. Byers، Ti
Cao، Stephen E. Webber و C. Grant Willson --
193 نانومتر تک لایه مقاومت بر اساس مشتقات پلی
(نوربورن-آلت-مالئیک انیدرید): تأثیر متقابل ساختار شیمیایی اجزاء
و خواص لیتوگرافی / F.M. Houlihan، A. Timko، R. Hutton، R.
Cirelli، J.M. Kometani، Elsa Reichmanis، و O. Nalamasu --
سنتز و ارزیابی پلیمرهای ستون فقرات alicyclic برای لیتوگرافی 193
نانومتری / هیروشی ایتو، نوربرت سیهوف، ریکیاتو ، توموناری
ناکایاما و میتسورو اوئدا --
پیشرفت در مقاومت تک لایه 193 نانومتری: نقش ساختار مولد اسید
فوتو بر عملکرد مقاومت های مثبت / رابرت دی آلن، جولیان اوپیتز،
کارل ای. لارسون، توماس اول والو، ریچارد دی پیترو، گرگوری بریتا،
راتنام سوریاکوماران، و دونالد سی. هوفر --
کالیکسارن و دندریمر به عنوان مواد مقاوم به نور جدید / اوسامو
هابا، دایسوکه تاکاهاشی، کوجی هاگا، یوشیماسا ساکای، توموناری
ناکایاما، و میتیت Ueda --
مقاومت کالیکسارن برای نانولیتوگرافی / Yoshitake Ohnishi، Naoko
Wamme، و Jun-ichi Fujita --
طراحی و مطالعات اولیه مقاوم‌های تون مثبت قابل ریخته‌گری در آب،
قابل توسعه در آب: مدل و امکان‌سنجی مطالعات / جنیفر ام. هاوارد،
داریو پاسینی، ژان ام.جی. Fréchet، David Medeiros، Shintaro
Yamada و C. Grant Willson --
طراحی مولکولی برای مقاوم‌های جدید پرتو الکترونی مثبت / یوکیو
ناکازاکی --
تأثیر ساختار بر مهار انحلال برای مقاوم‌های نوری مبتنی بر
نوولاک: انطباق رویکرد احتمالی / کریستوفر ال. مک آدامز، وانگ
یوه، پاولوس تسیارتاس، دیل هسیه، و سی. گرانت ویلسون --
پلیمرهای تولید کننده فوتوتواسید برای مقاومت در برابر اصلاح سطح
/ Masamitsu Shirai، Mitsuho Masuda، Masahiro Tsunookando
Masuda، ، و تاکاهیرو ماتسو --
طراحی و توسعه مواد برای مقاومت در برابر تن منفی اشعه ماوراء
بنفش عمیق با عملکرد بالا سازگار با پایه آبی / پوشکارا رائو
بنارس، هیروشی ایتو، فیل براک، گرگوری بریتا، ویلیام آر.
برونسوولد، و احمد دی. Katnani --
فرآیند مقاومت شیمیایی تقویت شده پیشرفته با استفاده از تقویت
کننده چسبندگی غیر تولید کننده آمونیاک / M. Endo و A. Katsuyama
--
سینتیک پخت پس از قرار گرفتن در معرض در مقاومت های تقویت شده
شیمیایی مبتنی بر نوولاک اپوکسی / P. Argitis ، S. Boyatzis، I.
Rapti s، N. Glezos، و M. Hatzakis --
پلی آمید حساس به نور مثبت قابل توسعه قلیایی بر اساس حساس کننده
دیازونافتوکینون / T. Ueno، Y. Okabe، T. Miwa، Y. Maekawa، و G.
Rames-Langlade .
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Content: Lithography with a pattern of block copolymer
microdomains as a positive or negative resist / Christopher
Harrison, Miri Park, Paul M. Chaikin, Richard A. Register, and
Douglas H. Adamson --
Inorganic nanostructures on surfaces using micellar diblock
copolymer templates / Joachim P. Spatz, Thomas Herzog, Stefan
Mössmer, Paul Ziemann, and Martin Möller --
Synthesis of stereoregular polymers as precursors to highly
conducting carbon for use in applications in micro- and
nanolithography / C.B. Gorman, R.W. Vest, J.L. Snover, T.L.
Utz, and S.A. Serron --
Metallization on poly(tetrafluoroethylene) substrate by
excimer-laser-induced surface reaction and chemical plating /
Hiroyuki Niino and Akira Yabe --
An inorganic approach to photolithography : the
photolithographic deposition of dielectric metal oxide films /
Ross H. Hill and Sharon L. Blair --
Molding of polymeric microstructures / T. Hanemann, V. Piotter,
R. Ruprecht, and J.H. Hausselt --
Acid labile cross-linked units : a concept for improved
positive deep-UV photoresists / H.-T. Schacht, P. Falcigno, N.
Münzel, R. Schulz, and A. Medina --
Chemistry of ketal resist system and its lithographic
performance / Wu-Song Huang, Kim Y. Lee, Rao Bantu, Ranee
Kwong, Ahmad Katnani, Mahmoud Khojasteh, William Brunsvold,
Steven Holmes, Ronald Nunes, Tsuyoshi Shibata, George Orsula,
James Cameron, Dominic Yang, and Roger Sinta --
Photoacid diffusion in chemically amplified DUV resists /
Toshiro Itani, Hiroshi Yoshino, Shuichi Hashimoto, Mitsuharu
Yamana, Norihiko Samoto, and Kunihiko Kasama --
Highly photosensitive diazo compounds as photoacid generators
for chemically amplified resists / Kieko Harada, Masahito
Kushida, Kyoichi Saito, Kazuyuki Sugita, and Hirotada Iida
--
Exploration of chemically amplified resist mechanisms and
performance at small linewidths / James W. Taylor, Paul M.
Dentinger, Steven J. Rhyner, and Geoffrey W. Reynolds --
The preparation and investigation of macromolecular
architectures for microlithography by "living" free radical
polymerization / G.G. Barclay, M. King, A. Orellana, P.R.L.
Malenfant, R. Sinta, E. Malmstrom, H. Ito, and C.J. Hawker
--
Acid proliferation reactions and their application to
chemically amplified lithographic imaging / Kunihiro Ichimura,
Koji Arimitsu, Soh Noguchi, and Kazuaki Kudo --
Deprotection kinetics of alicyclic polymer resist systems
designed for ArF (193 nm) lithography / Uzodinma Okoroanyanwu,
Jeffrey D. Byers, Ti Cao, Stephen E. Webber, and C. Grant
Willson --
193 nm single layer resist based on poly(norbornene-alt-maleic
anhydride) derivatives : the interplay of the chemical
structure of components and lithographic properties / F.M.
Houlihan, A. Timko, R. Hutton, R. Cirelli, J.M. Kometani, Elsa
Reichmanis, and O. Nalamasu --
Synthesis and evaluation of alicyclic backbone polymers for 193
nm lithography / Hiroshi Ito, Norbert Seehof, Rikiya Sato,
Tomonari Nakayama, and Mitsuru Ueda --
Progress in 193-nm single layer resists: the role of photoacid
generator structure on the performance of positive resists /
Robert D. Allen, Juliann Opitz, Carl E. Larson, Thomas I.
Wallow, Richard A. DiPietro, Gregory Breyta, Ratnam
Sooriyakumaran, and Donald C. Hofer --
Calixarene and dendrimer as novel photoresist materials / Osamu
Haba, Daisuke Takahashi, Kohji Haga, Yoshimasa Sakai, Tomonari
Nakayama, and Mitsuru Ueda --
Calixarene resists for nanolithography / Yoshitake Ohnishi,
Naoko Wamme, and Jun-ichi Fujita --
Design and preliminary studies of environmentally enhanced
water-castable, water-developable positive tone resists : model
and feasibility studies / Jennifer M. Havard, Dario Pasini,
Jean M.J. Fréchet, David Medeiros, Shintaro Yamada, and C.
Grant Willson --
Molecular design for new positive electron-beam resists / Yukio
Nagasaki --
The influence of structure on dissolution inhibition for
novolac-based photoresists : adaption of the probabilistic
approach / Christopher L. McAdams, Wang Yueh, Pavlos Tsiartas,
Dale Hsieh, and C. Grant Willson --
Photoacid generating polymers for surface modification resists
/ Masamitsu Shirai, Mitsuho Masuda, Masahiro Tsunooka, Masayuki
Endo, and Takahiro Matsuo --
Material design and development for aqueous base compatible
high-performance deep UV negative-tone resists / Pushkara Rao
Varanasi, Hiroshi Ito, Phil Brock, Gregory Breyta, William R.
Brunsvold, and Ahmad D. Katnani --
Advanced chemically amplified resist process using non-ammonia
generating adhesion promoter / M. Endo and A. Katsuyama
--
Post-exposure bake kinetics in epoxy novolac-based chemically
amplified resists / P. Argitis, S. Boyatzis, I. Raptis, N.
Glezos, and M. Hatzakis --
Alkali-developable positive-photosensitive polyimide based on
diazonaphthoquinone sensitizer / T. Ueno, Y. Okabe, T. Miwa, Y.
Maekawa, and G. Rames-Langlade.
نظرات کاربران
کتاب های تصادفی
دانلود کتاب Keepers: Two Home Cooks Share Their Tried-and-True Weeknight Recipes and the Secrets to Happiness in the Kitchen
دانلود کتاب Toeplitz Matrices, Asymptotic Linear Algebra and Functional Analysis
دانلود کتاب Objective Troy: A Terrorist, a President, and the Rise of the Drone
دانلود کتاب The Fashion Designer's Textile Directory A Guide to Fabrics' Properties, Characteristics, and Garment-Design Potential
