دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: [1 ed.] نویسندگان: Zumin Wang (Editor), Lars P. H. Jeurgens (Editor), Eric J. Mittemeijer (Editor) سری: ISBN (شابک) : 9789814463409, 9780429162589 ناشر: Jenny Stanford Publishing سال نشر: 2015 تعداد صفحات: [317] زبان: فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 35 Mb
در صورت تبدیل فایل کتاب Metal-Induced Crystallization: Fundamentals and Applications به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تبلور ناشی از فلز: مبانی و کاربردها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
نیمه هادی های کریستالی به شکل لایه های نازک مواد حیاتی برای بسیاری از فناوری های مدرن و پیشرفته در زمینه هایی مانند میکروالکترونیک، اپتوالکترونیک، فناوری نمایشگر و فناوری فتوولتائیک هستند. نیمه هادی های کریستالی را می توان در دماهای بسیار پایین (تا 120 ̊C) با تبلور نیمه هادی های آمورف، که در تماس با فلز قرار می گیرند، تولید کرد. این فرآیند به اصطلاح کریستالیزاسیون ناشی از فلز، علاقه علمی و فناوری زیادی را به خود جلب کرده است زیرا امکان تولید دستگاه های پیشرفته مبتنی بر نیمه هادی کریستالی را در دماهای بسیار پایین، به عنوان مثال، مستقیماً روی بسترهای ارزان قیمت (اما اغلب حساس به حرارت) فراهم می کند. این کتاب اولین مروری جامع و عمیق از درک بنیادی کنونی از فرآیند تبلور ناشی از فلز را ارائه میکند و نحوه بکارگیری این فرآیند را در فناوریهای مختلف، بهعنوان مثال، در سلولهای خورشیدی لایه نازک و فنآوریهای نمایشی توضیح میدهد. هدف آن ارائه دیدگاهی جامع از فرآیند تبلور ناشی از فلز به خواننده و در نتیجه تحریک توسعه فناوریهای جدید مبتنی بر نیمهرساناهای کریستالی است.
Crystalline semiconductors in the form of thin films are crucial materials for many modern, advanced technologies in fields such as microelectronics, optoelectronics, display technology, and photovoltaic technology. Crystalline semiconductors can be produced at surprisingly low temperatures (as low as 120 ̊C) by crystallization of amorphous semiconductors, which are put in contact with a metal. This so-called metal-induced crystallization process has attracted great scientific and technological interest because it allows the production of crystalline semiconductor-based advanced devices at very low temperatures, for example, directly on low-cost (but often heat-sensitive) substrates. This book provides the first comprehensive and in-depth overview of the current fundamental understanding of the metal-induced crystallization process and further elucidates how to employ this process in different technologies, for example, in thin-film solar cells and display technologies. It aims to give the reader a comprehensive perspective of the metal-induced crystallization process and thereby stimulate the development of novel crystalline semiconductor-based technologies.
Content:
Introduction to Metal-Induced Crystallization Atomic Mechanisms and Interface Thermodynamics of Metal-Induced Crystallization of Amorphous Semiconductors at Low Temperatures Thermodynamics and Kinetics of Layer Exchange upon Low-Temperature Annealing Amorphous Si/Polycrystalline Al Layered Structures Metal-Induced Crystallization by Homogeneous Insertion of Metallic Species in Amorphous Semiconductors Aluminum-Induced Crystallization: Applications in Photovoltaic Technologies Applications of Metal-Induced Crystallization for Advanced Flat-Panel Displays Laser-Assisted Metal-Induced Crystallization and Its Applications in Data Storage