دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: نویسندگان: Margrit Hanbücken, Pierre Müller, Ralf B Wehrspohn سری: ISBN (شابک) : 9783527639540, 352763956X ناشر: Wiley-VCH سال نشر: 2011 تعداد صفحات: 370 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 42 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Mechanical stress on the nanoscale : simulation, material systems and characterization techniques به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب استرس مکانیکی در مقیاس نانو: شبیهسازی، سیستمهای مواد و تکنیکهای مشخصهسازی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
محتوا: ماده جلویی --
مبانی استرس و فشار در مقیاس نانو. آرامش کرنش الاستیک:
ترمودینامیک و سینتیک / فرانک گلاس --
مبانی تنش و کرنش در سطح نانومقیاس: به سوی نانوالاستیسیته / پیر
مولر --
شروع پلاستیسیته در نانومواد کریستالی / لورن پیزاگالی، ساندرین
جولین گود --
آرامش در مقیاس نانو: نمای اتمی با شبیه سازی عددی / کریستین موتت
--
سیستم های مدل با ویژگی های مهندسی شده استرس. انطباق نا مناسب
شبکه در نانوسیمهای ناهمرسانا نیمهرسانا / Volker Schmidt,
Joerg V Wittemann --
نانودستگاههای سیلیکونی فشاری / Manfred Reiche, Oussama
Moutanabbir, Jan Hoentschel, Angelika H̃hnel, Stefan Flachowst,
Ulfrehman Flachowst > الگوهای نانو استرس محور در سیستم های
فلزی / وینسنت ریپین، سیلوی روست، شوبانا نراسیمهان --
الگوهای نیمه هادی برای ساخت اشیاء نانو / جول ایمری، لارنس
ماسون، هودا سحاف، مارگریت هانبوک --
تکنیکهای مشخصسازی تنشها در مقیاس نانو. تجزیه و تحلیل کرنش در
میکروسکوپ الکترونی عبوری: تا کجا می توانیم پیش برویم؟ / Anne
Ponchet, Christophe Gatel, Christian Roucau, Marie-Još Casanove
--
تعیین کرنش های الاستیک با استفاده از پراش الکترونی پس پراکندگی
در میکروسکوپ الکترونی روبشی / Michael Krause, Matthias Petzold,
Ralf B Wehrspohn --
X -تجزیه و تحلیل پراش پرتو کرنش های الاستیک در مقیاس نانو /
اولیویه توماس، اودیل روباخ، سوفانی اسکوباس، ژان-شباستیان میشا،
نیکلاس واکسلر، اولیویه پرو --
پراکندگی پرتو ایکس پراکنده در ساختارهای با ابعاد پایین در
ساختار سیستم /Si / مایکل هانکه --
اندازهگیری مستقیم حالتهای جابجایی الاستیک به وسیله پراش پرتو
ایکس با وقوع چرای / Geoffroy Přvot --
مقیاس زیر میکرومتری سیلیکون خورشیدی توسط طیفسنجی رامان / مایکل
بکر، جورج ساراو، سیلک کریستینسن --
اپتیک غیرخطی ناشی از کرنش در سیلیکون / کلمنس شریور، کریستین
بوهلی، رالف بی ورسپون --
شاخص.
Content: Front Matter --
Fundamentals of Stress and Strain on the Nanoscale. Elastic
Strain Relaxation: Thermodynamics and Kinetics / Frank Glas
--
Fundamentals of Stress and Strain at the Nanoscale Level:
Toward Nanoelasticity / Pierre Muller --
Onset of Plasticity in Crystalline Nanomaterials / Laurent
Pizzagalli, Sandrine Brochard, Julien Godet --
Relaxations on the Nanoscale: An Atomistic View by Numerical
Simulations / Christine Mottet --
Model Systems with Stress-Engineered Properties. Accommodation
of Lattice Misfit in Semiconductor Heterostructure Nanowires /
Volker Schmidt, Joerg V Wittemann --
Strained Silicon Nanodevices / Manfred Reiche, Oussama
Moutanabbir, Jan Hoentschel, Angelika H̃hnel, Stefan
Flachowsky, Ulrich G̲sele, Manfred Horstmann --
Stress-Driven Nanopatterning in Metallic Systems / Vincent
Repain, Sylvie Rousset, Shobhana Narasimhan --
Semiconductor Templates for the Fabrication of Nano-Objects /
Jo︠l Eymery, Laurence Masson, Houda Sahaf, Margrit Hanbucken
--
Characterization Techniques of Measuring Stresses on the
Nanoscale. Strain Analysis in Transmission Electron Microscopy:
How Far can we go? / Anne Ponchet, Christophe Gatel, Christian
Roucau, Marie-Još Casanove --
Determination of Elastic Strains Using Electron Backscatter
Diffraction in the Scanning Electron Microscope / Michael
Krause, Matthias Petzold, Ralf B Wehrspohn --
X-Ray Diffraction Analysis of Elastic Strains at the Nanoscale
/ Olivier Thomas, Odile Robach, Sťphanie Escoubas,
Jean-Šbastien Micha, Nicolas Vaxelaire, Olivier Perroud
--
Diffuse X-Ray Scattering at Low-Dimensional Structures in the
System SiGe/Si / Michael Hanke --
Direct Measurement of Elastic Displacement Modes by Grazing
Incidence X-Ray Diffraction / Geoffroy Přvot --
Submicrometer-Scale Characterization of Solar Silicon by Raman
Spectroscopy / Michael Becker, George Sarau, Silke Christiansen
--
Strain-Induced Nonlinear Optics in Silicon / Clemens Schriever,
Christian Bohley, Ralf B Wehrspohn --
Index.