دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Materials and Processes for Next Generation Lithography
دانلود کتاب مواد و فرآیندهای لیتوگرافی نسل بعدی
مشخصات کتاب
Materials and Processes for Next Generation Lithography
ویرایش: 1
نویسندگان: Alex Robinson and Richard Lawson (Eds.)
سری: Frontiers of Nanoscience 11
ISBN (شابک) : 0081003544, 9780081003541
ناشر: Elsevier
سال نشر: 2016
تعداد صفحات: 614
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 57 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 54,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Materials and Processes for Next Generation Lithography به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مواد و فرآیندهای لیتوگرافی نسل بعدی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب مواد و فرآیندهای لیتوگرافی نسل بعدی
از آنجایی که الزامات صنعت نیمه هادی ها از نظر وضوح و سرعت بیشتر خواستار شده اند، لازم است مواد مقاوم به نور بسیار فراتر از قابلیت های پیش بینی شده قبلی فشار داده شوند. در حال حاضر تلاش های تحقیقاتی قابل توجهی در سراسر جهان برای به اصطلاح تکنیک های لیتوگرافی نسل بعدی مانند لیتوگرافی EUV و لیتوگرافی پرتو الکترونی چند پرتویی وجود دارد.
این پیشرفت‌ها در عرصه لیتوگرافی صنعتی و دانشگاهی منجر به گسترش روش‌های جدید متعددی برای مقاومت در برابر شیمی و توسعه‌های هوشمندانه فوتوپلیمرهای سنتی شده است. در حال حاضر اکثر متون در این زمینه بر روی لیتوگرافی با شاید یک یا دو فصل در مورد رزیست ها یا بر روی مواد مقاوم سنتی با توجه نسبتاً کمی به رویکردهای جدید تمرکز دارند.
بنابراین هدف این کتاب این است که مهمترین دانشمندان توسعه مقاومت جهان را از جوامع مختلف گرد هم آورد تا در یک مکان توصیفی قطعی از بسیاری از رویکردهای ساخت لیتوگرافی ارائه دهد.
- جمع آوری اطلاعات به روز از شیمیدانان مقاوم برتر جهان و لیتوگراف های توسعه تکنیک در مورد خواص و قابلیت های طیف وسیعی از مواد مقاوم که در حال حاضر تحت بررسی هستند
- شامل اطلاعاتی در مورد تکنیک های پردازش و اندازه گیری است
- رویکردهای متعدد برای ثبت الگوی لیتو از دانشگاه و صنعت را در یک مکان گرد هم می آورد
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography.
These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches.
This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.
- Assembles up-to-date information from the world’s premier resist chemists and technique development lithographers on the properties and capabilities of the wide range of resist materials currently under investigation
- Includes information on processing and metrology techniques
- Brings together multiple approaches to litho pattern recording from academia and industry in one place
فهرست مطالب
Content:
Frontiers of Nanoscience Page ii
Front Matter Page iii
Copyright Page iv
Contributors Pages xv-xvii
Preface Pages xix-xx Alex P.G. Robinson, Richard A. Lawson
Acknowledgments Page xxi Alex P.G. Robinson, Richard A. Lawson
List of abbreviations Pages xxiii-xxv
Chapter 1 - Overview of materials and processes for lithography Pages 1-90 Richard A. Lawson, Alex P.G. Robinson
Chapter 2 - Molecular excitation and relaxation of extreme ultraviolet lithography photoresists Pages 91-113 D. Frank Ogletree
Chapter 3 - Theory: Electron-induced chemistry Pages 115-133 Willem F. van Dorp
Chapter 4 - EUV lithography process challenges Pages 135-176 Elizabeth Buitrago, Tero S. Kulmala, Roberto Fallica, Yasin Ekinci
Chapter 5 - EUV lithography patterning challenges Pages 177-192 Patrick Naulleau
Chapter 6 - The chemistry and application of nonchemically amplified (non-CA) chain-scission resists Pages 193-210 Andrew K. Whittaker
Chapter 7 - Chemically amplified resists and acid amplifiers Pages 211-222 James W. Thackeray
Chapter 8 - Negative-tone organic molecular resists Pages 223-317 Richard A. Lawson, Andreas Frommhold, Dongxu Yang, Alex P.G. Robinson
Chapter 9 - Positive molecular resists Pages 319-348 Panagiotis Argitis, Veroniki P. Vidali, Dimitra Niakoula
Chapter 10 - Mainstreaming inorganic metal-oxide resists for high-resolution lithography Pages 349-375 Deirdre Olynick, Adam Schwartzberg, Douglas A. Keszler
Chapter 11 - Molecular organometallic resists for EUV (MORE) Pages 377-420 Brian Cardineau
Chapter 12 - SML electron beam resist: Ultra-high aspect ratio nanolithography Pages 421-446 Scott M. Lewis, Guy A. DeRose
Chapter 13 - Alternative resist approaches Pages 447-478 Alex P.G. Robinson, Richard A. Lawson
Chapter 14 - Next generation lithography—the rise of unconventional methods? Pages 479-495 Marcus Kaestner, Yana Krivoshapkina, Ivo W. Rangelow
Chapter 15 - Tip-based nanolithography methods and materials Pages 497-542 Yana Krivoshapkina, Marcus Kaestner, Ivo W. Rangelow
Chapter 16 - Thermal scanning probe lithography Pages 543-561 Philip C. Paul
Chapter 17 - Scanning helium ion beam lithography Pages 563-594 Xiaoqing Shi, Stuart A. Boden
Index Pages 595-608
