Materials and Processes for Next Generation Lithography

از آنجایی که الزامات صنعت نیمه هادی ها از نظر وضوح و سرعت بیشتر خواستار شده اند، لازم است مواد مقاوم به نور بسیار فراتر از قابلیت های پیش بینی شده قبلی فشار داده شوند. در حال حاضر تلاش های تحقیقاتی قابل توجهی در سراسر جهان برای به اصطلاح تکنیک های لیتوگرافی نسل بعدی مانند لیتوگرافی EUV و لیتوگرافی پرتو الکترونی چند پرتویی وجود دارد.

این پیشرفت‌ها در عرصه لیتوگرافی صنعتی و دانشگاهی منجر به گسترش روش‌های جدید متعددی برای مقاومت در برابر شیمی و توسعه‌های هوشمندانه فوتوپلیمرهای سنتی شده است. در حال حاضر اکثر متون در این زمینه بر روی لیتوگرافی با شاید یک یا دو فصل در مورد رزیست ها یا بر روی مواد مقاوم سنتی با توجه نسبتاً کمی به رویکردهای جدید تمرکز دارند.

بنابراین هدف این کتاب این است که مهمترین دانشمندان توسعه مقاومت جهان را از جوامع مختلف گرد هم آورد تا در یک مکان توصیفی قطعی از بسیاری از رویکردهای ساخت لیتوگرافی ارائه دهد.

• جمع آوری اطلاعات به روز از شیمیدانان مقاوم برتر جهان و لیتوگراف های توسعه تکنیک در مورد خواص و قابلیت های طیف وسیعی از مواد مقاوم که در حال حاضر تحت بررسی هستند
• شامل اطلاعاتی در مورد تکنیک های پردازش و اندازه گیری است
• رویکردهای متعدد برای ثبت الگوی لیتو از دانشگاه و صنعت را در یک مکان گرد هم می آورد

As the requirements of the semiconductor industry have become more demanding in terms of resolution and speed it has been necessary to push photoresist materials far beyond the capabilities previously envisioned. Currently there is significant worldwide research effort in to so called Next Generation Lithography techniques such as EUV lithography and multibeam electron beam lithography.

These developments in both the industrial and the academic lithography arenas have led to the proliferation of numerous novel approaches to resist chemistry and ingenious extensions of traditional photopolymers. Currently most texts in this area focus on either lithography with perhaps one or two chapters on resists, or on traditional resist materials with relatively little consideration of new approaches.

This book therefore aims to bring together the worlds foremost resist development scientists from the various community to produce in one place a definitive description of the many approaches to lithography fabrication.

• Assembles up-to-date information from the world’s premier resist chemists and technique development lithographers on the properties and capabilities of the wide range of resist materials currently under investigation
• Includes information on processing and metrology techniques
• Brings together multiple approaches to litho pattern recording from academia and industry in one place