دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Lon Implantation in Semiconductors. Silicon and Germanium
دانلود کتاب کاشت لون در نیمه هادی ها. سیلیکون و ژرمانیم
مشخصات کتاب
Lon Implantation in Semiconductors. Silicon and Germanium
ویرایش:
نویسندگان: James Mayer (Auth.)
سری:
ISBN (شابک) : 9780124808508, 0323157211
ناشر: Elsevier Science
سال نشر: 1970
تعداد صفحات: 285
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 7 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 40,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Lon Implantation in Semiconductors. Silicon and Germanium به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب کاشت لون در نیمه هادی ها. سیلیکون و ژرمانیم نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
فهرست مطالب
Content:
Front Matter, Page iii
Copyright, Page iv
Dedication, Page v
Preface, Page xi
Acknowledgments, Page xiii
1 - General Features of Ion Implantation, Pages 1-9
2 - Ranges and Range Distributions of Implanted Atoms, Pages 10-64
3 - Lattice Disorder and Radiation Damage, Pages 65-124
4 - The Lattice Location of Implanted Atoms, Pages 125-180
5 - Hall-Effect and Sheet-Resistivity Measurements in Silicon, Pages 181-223
6 - Device Considerations and Applications, Pages 224-249
Appendix - Channeling Behavior of Low-Z, MeV Particles in Diamond-Type Lattices, Pages 250-258
References, Pages 259-268
Author Index, Pages 269-274
Subject Index, Pages 275-280
