ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Lecture Notes on Principles of Plasma Processing

دانلود کتاب یادداشت های سخنرانی در مورد اصول پردازش پلاسما

Lecture Notes on Principles of Plasma Processing

مشخصات کتاب

Lecture Notes on Principles of Plasma Processing 

دسته بندی: فیزیک
ویرایش: 1 
نویسندگان: ,   
سری:  
ISBN (شابک) : 0306474972, 9780306474972 
ناشر: Springer 
سال نشر: 2003 
تعداد صفحات: 248 
زبان: English 
فرمت فایل : DJVU (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 7 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 36,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 14


در صورت تبدیل فایل کتاب Lecture Notes on Principles of Plasma Processing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب یادداشت های سخنرانی در مورد اصول پردازش پلاسما نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب یادداشت های سخنرانی در مورد اصول پردازش پلاسما



پردازش پلاسما در نیمه هادی ها یک زمینه بین رشته ای است که به دانش فیزیک پلاسما و مهندسی شیمی نیاز دارد. این دو نویسنده در هر یک از این زمینه ها متخصص هستند و همکاری آنها منجر به ادغام این زمینه ها با یک اصطلاح مشترک می شود. مفاهیم پایه پلاسما بدون درد برای کسانی که در مقطع کارشناسی الکترومغناطیسی خوانده اند اما قبلاً در معرض پلاسما قرار نگرفته اند، معرفی می شود. مشتقات جزئی غیر ضروری حذف می شوند. با این حال، خواننده به درک عمیقی از مفاهیمی مانند ساختار غلاف‌ها که در طراحی و عملکرد راکتورهای پردازش پلاسما مهم هستند، هدایت می‌شود. فیزیکدانانی که به پلاسماهای با دمای پایین عادت ندارند با سینتیک شیمیایی، علوم سطح و طیف‌سنجی مولکولی آشنا می‌شوند. این مطالب برای یک دوره تحصیلات تکمیلی نه هفته ای متراکم شده است، اما کافی است تا خواننده را در مورد مشکلات فعلی مانند اتصالات مسی، دی الکتریک های کم و پک بالا و آسیب اکسید به روز کند. دانش‌آموزان از طرح‌بندی به سبک وب با تصاویر رنگی فراوان در مقابل متن، با فضای کافی برای یادداشت‌ها قدردانی خواهند کرد. سی دی همراه شامل یک کپی از کتاب است که می تواند با استفاده از یک تابع جستجو نمایه شود، و می توان آن را برای مشاهده دقیق تر نمودارها، روی مانیتور بزرگ کرد. نمونه تکالیف و مسائل امتحانی نیز در سی دی موجود است.

این کتاب کوتاه برای کارگران جدید در صنعت نیمه هادی که می خواهند با حداقل تلاش به سرعت بالا بروند ایده آل است. همچنین برای دانشجویان مهندسی شیمی که در حال مطالعه پردازش پلاسما مواد هستند مناسب است. مهندسان، فیزیکدانان و تکنسین‌هایی که وارد صنعت نیمه‌رسانا می‌شوند، می‌خواهند مروری سریع بر استفاده از پلاسما در صنعت داشته باشند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Plasma processing of semiconductors is an interdisciplinary field requiring knowledge of both plasma physics and chemical engineering. The two authors are experts in each of these fields, and their collaboration results in the merging of these fields with a common terminology. Basic plasma concepts are introduced painlessly to those who have studied undergraduate electromagnetics but have had no previous exposure to plasmas. Unnecessarily detailed derivations are omitted; yet the reader is led to understand in some depth those concepts, such as the structure of sheaths, that are important in the design and operation of plasma processing reactors. Physicists not accustomed to low-temperature plasmas are introduced to chemical kinetics, surface science, and molecular spectroscopy. The material has been condensed to suit a nine-week graduate course, but it is sufficient to bring the reader up to date on current problems such as copper interconnects, low-k and high-k dielectrics, and oxide damage. Students will appreciate the web-style layout with ample color illustrations opposite the text, with ample room for notes. The included CD contains a copy of the book which can be indexed using a Search function, and which can be enlarged on a monitor for a closer look at the diagrams. Sample homework and exam problems can also be found on the CD.

This short book is ideal for new workers in the semiconductor industry who want to be brought up to speed with minimum effort. It is also suitable for Chemical Engineering students studying plasma processing of materials; Engineers, physicists, and technicians entering the semiconductor industry who want a quick overview of the use of plasmas in the industry.



فهرست مطالب

Lecture Notes on Principles of Plasma Processing......Page 1
Preface......Page 2
Table of Contents......Page 4
I. What is a plasma ?......Page 7
II. Plasma fundamentals......Page 9
III. Gas discharge fundamentals......Page 17
IV. Introduction to plasma sources......Page 31
V. RIE discharges......Page 37
VI. ECR sources......Page 53
VII. Inductively coupled plasmas (ICPs)......Page 55
VIII. Helicon wave sources and HDPs......Page 67
IX. Discharge equilibrium......Page 75
XI. Remote diagnostics......Page 81
XII. Langmuir probes......Page 85
XIII. Other local diagnostics......Page 99
I. Plasma processing......Page 104
II. Applications in Microelectronics......Page 105
I. Kinetic theory......Page 108
II. Practical gas kinetic models and macroscopic properties......Page 114
III. Collision dynamics......Page 124
I. Atomic energy levels......Page 129
II. Atomic collisions......Page 130
III. Elastic collisions......Page 133
IV. Inelastic collisions......Page 134
I. Molecular energy levels......Page 141
II. Selection rule for optical emission of molecules......Page 143
III. Electron collisions with molecules......Page 144
IV. Heavy particle collisions......Page 146
V. Gas phase kinetics......Page 147
I. Optical emission spectroscopy......Page 154
II. Laser induced fluorescence......Page 164
III. Laser interferometry......Page 165
IV. Full-wafer interferometry......Page 166
V. Mass spectrometry......Page 167
II. Surface reactions......Page 170
III. Loading......Page 180
IV. Selectivity......Page 181
V. Detailed reaction modeling......Page 182
I. Fundamentals of feature evolution in plasma etching......Page 185
II. Predictive modeling......Page 187
III. Mechanisms of profile evolution......Page 188
IV. Profile simulation......Page 192
V. Plasma damage......Page 195
I. Front-end challenges......Page 200
II. Back-end challenges......Page 202
III. Patterning nanometer features......Page 205
IV. Deep reactive etch for MEMS......Page 206
V. Plasma-induced damage......Page 207
VI. Species control in plasma reactors......Page 208
Sample homework and exam problems - Part A: Plasma physics......Page 210
Sample homework and exam problems - Part B: Plasma chemistry......Page 232




نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی