دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: نویسندگان: Coffa. S., Ferla. G., Priolo. F, Rimini. E. (eds.) سری: ISBN (شابک) : 0444821945, 9780444821942 ناشر: North-Holland سال نشر: 1995 تعداد صفحات: 1031 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 207 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب فناوری کاشت یون-94: مجموعه مقالات دهمین کنفرانس بین المللی فناوری کاشت یون کاتانیا ، ایتالیا ، 13-17 ژوئن 1994: نیمه هادی ها الکترونیک مهندسی برق حمل و نقل فیزیک هسته ای اتمی علوم ریاضی حالت جامد فناوری ابررسانایی کتاب های درسی اجاره ای جدید استفاده شده کتاب های درسی اجاره ای کسب و کار مالی ارتباطات روزنامه نگاری آموزش کامپیوتر علوم انسانی حقوق پزشکی علوم بهداشت مرجع ریاضیات آزمون اجتماعی آمادگی برای مطالعه راهنماهای مطالعه بوتیک تخصصی
در صورت تبدیل فایل کتاب Ion Implantation Technology-94: Proceedings of the Tenth International Conference on Ion Implantation Technology Catania, Italy, June 13-17, 1994 به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب فناوری کاشت یون-94: مجموعه مقالات دهمین کنفرانس بین المللی فناوری کاشت یون کاتانیا ، ایتالیا ، 13-17 ژوئن 1994 نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
هدف از این اقدامات ارائه و تحریک بحث در مورد بسیاری از موضوعات مرتبط با کاشت یون در میان ترکیب گسترده ای از متخصصان از مناطق مختلف مانند علم مواد، تولید دستگاه و کاشت یون های پیشرفته است. مطالب با مقاله ای در مورد پیشرفت های آینده صنعت میکروالکترونیک در اروپا در چارچوب رقابت جهانی آغاز می شود. ارائههای دعوتشده و شفاهی بعدی به تفصیل حوزههای زیر را پوشش میدهند: روندها در پردازش و دستگاهها، تعامل یون-جامد، مسائل علم مواد، سیستمهای پیشرفته کاشت، کنترل فرآیند و بازده، روندها و کاربردهای آینده.
The aim of these proceedings is to present and stimulate discussion on the many subjects related to ion implantation among a broad mix of specialists from areas as diverse as materials science, device production and advanced ion implanters. The contents open with a paper on the future developments of the microelectronics industry in Europe within the framework of the global competition. The subsequent invited and oral presentations cover in detail the following areas: trends in processing and devices, ion-solid interaction, materials science issues, advanced implanter systms, process control and yield, future trends and applications.