دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: فیزیک پلاسما ویرایش: 1 نویسندگان: Hans Glawischnig (auth.), Dr. Heiner Ryssel, Dr. Hans Glawischnig (eds.) سری: Springer Series in Electrophysics 10 ISBN (شابک) : 9783642687815, 9783642687792 ناشر: Springer-Verlag Berlin Heidelberg سال نشر: 1982 تعداد صفحات: 376 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 19 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب تکنیکهای کاشت یون: سخنرانیهایی که در دانشکده کاشت یون در ارتباط با چهارمین کنفرانس بینالمللی کاشت یون: تجهیزات و تکنیکها ارائه شد Berchtesgaden، فدرال رزرو. جمهوری آلمان، 13 تا 15 سپتامبر 1982: کریستالوگرافی، سطوح و رابط ها، لایه های نازک، مهندسی، عمومی
در صورت تبدیل فایل کتاب Ion Implantation Techniques: Lectures given at the Ion Implantation School in Connection with Fourth International Conference on Ion Implantation: Equipment and Techniques Berchtesgaden, Fed. Rep. of Germany, September 13–15, 1982 به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب تکنیکهای کاشت یون: سخنرانیهایی که در دانشکده کاشت یون در ارتباط با چهارمین کنفرانس بینالمللی کاشت یون: تجهیزات و تکنیکها ارائه شد Berchtesgaden، فدرال رزرو. جمهوری آلمان، 13 تا 15 سپتامبر 1982 نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
Front Matter....Pages I-XII
Front Matter....Pages 1-1
Ion Implantation System Concepts....Pages 3-21
Ion Sources....Pages 23-71
Faraday Cup Designs for Ion Implantation....Pages 73-103
Safety and Ion Implanters....Pages 105-120
Front Matter....Pages 121-121
The Stopping and Range of Ions in Solids....Pages 122-156
The Calculation of Ion Ranges in Solids with Analytic Solutions....Pages 157-176
Range Distributions....Pages 177-205
Front Matter....Pages 207-207
Electrical Measuring Techniques....Pages 209-234
Wafer Mapping Techniques for Characterization of Ion Implantation Processing....Pages 235-253
Non-Electrical Measuring Techniques....Pages 255-297
Annealing and Residual Damage....Pages 299-316
Front Matter....Pages 317-317
Evolution and Performance of the Nova NV-ID Predep™ Implanter....Pages 319-342
Ion Implantation Equipment from Veeco....Pages 343-350
The Series IIIA and IIIX Ion Implanters....Pages 351-358
Standard High-Voltage Power Supplies for Ion Implantation....Pages 359-360
The IONMICROPROBE A-DIDA 3000-30 for Dopant Depth Profiling and Impurity Bulk Analysis....Pages 361-366
Back Matter....Pages 367-372