دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: M. Goorsky
سری:
ISBN (شابک) : 9789535106340
ناشر: Intech
سال نشر: 2012
تعداد صفحات: 448
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 36 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Ion Implantation به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب کاشت یون نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
کاشت یون یک فناوری به طور مداوم در حال تکامل است. در حالی که مزایای کاشت یون برای بسیاری از تلاش های تجاری به خوبی شناخته شده است، پیشرفت های اخیر در این زمینه صورت گرفته است. بهبود در تجهیزات، درک تعاملات پرتو-جامد، کاربردها در مواد جدید، تکنیکهای بهبود یافته مشخصسازی، و پیشرفتهای جدیدتر برای استفاده از کاشت برای تشکیل نانوساختار، به جهتهای جدیدی برای کاشت یون اشاره دارد و در این کتاب ارائه شده است.
Ion implantation presents a continuously evolving technology. While the benefits of ion implantation are well recognized for many commercial endeavors, there have been recent developments in this field. Improvements in equipment, understanding of beam-solid interactions, applications to new materials, improved characterization techniques, and more recent developments to use implantation for nanostructure formation point to new directions for ion implantation and are presented in this book.