دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Industrial Plasma Engineering, Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing
دانلود کتاب مهندسی پلاسمای صنعتی، جلد 2: کاربردها در پردازش پلاسما غیر حرارتی
مشخصات کتاب
Industrial Plasma Engineering, Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing
ویرایش:
نویسندگان: J Reece Roth
سری:
ISBN (شابک) : 9781420034127, 142003412X
ناشر: CRC Press
سال نشر: 2001
تعداد صفحات: 658
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 5 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 30,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Industrial Plasma Engineering, Volume 2: Applications to Nonthermal Plasma Processing به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مهندسی پلاسمای صنعتی، جلد 2: کاربردها در پردازش پلاسما غیر حرارتی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب مهندسی پلاسمای صنعتی، جلد 2: کاربردها در پردازش پلاسما غیر حرارتی
این متن برای فیزیکدانان و مهندسانی نوشته شده است که با اصول مهندسی پلاسمای صنعتی آشنا هستند و باید درک کاملی از نحوه استفاده از پلاسما در صنعت داشته باشند. این شامل ارجاعات جامعی به تحقیقات اولیه و اختراعات صنعتی است.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
This text is written for physicists and engineers familiar with the principles of industrial plasma engineering, and who need to obtain a thorough understanding of how plasma applications may be used in industry. It contains comprehensive references to primary research, and to industrial patents.
فهرست مطالب
Content: Contents; Preface to Volume 2; 14. Surface Interactions in Plasma Processing; 15. Atmospheric Pressure Plasma Sources; 16. Vacuum Plasma Sources; 17. Plasma Reactors for Plasma Processing; 18. Specialized Techniques and Devices for Plasma Processing; 19. Parametric Plasma Effects On Plasma Processing; 20. Diagnostics for Plasma Processing; 21. Plasma Treatment of Surfaces; 22. Surface Modification by Implantation and Diffusion; 23. Thin-Film Deposition by Evaporative Condensation and Sputtering; 24. Plasma Chemical Vapor Deposition (PCVD); 25. Plasma Etching; Appendices; Index.
Abstract: This text is written for physicists and engineers familiar with the principles of industrial plasma engineering, and who need to obtain a thorough understanding of how plasma applications may be used in industry. It contains comprehensive references to primary research, and to industrial patents
