دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: R.J. MALIK (Eds.)
سری: Materials Processing: Theory and Practices 7
ISBN (شابک) : 9780444870742, 0444870741
ناشر: North-Holland
سال نشر: 1989
تعداد صفحات: 735
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 21 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب III-V Semiconductor Materials and Devices به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب مواد و دستگاه های نیمه هادی III-V نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
تاکید اصلی این حجم بر روی تکنیک های رشد کریستال همپایه و توده ای نیمه هادی III-V است. فصل هایی نیز در مورد خصوصیات مواد و کاشت یون گنجانده شده است. به منظور قرار دادن این تکنیک های رشد در چشم انداز، یک بررسی کامل از فیزیک و فناوری دستگاه های III-V ارائه شده است. این اولین کتاب در نوع خود است که در مورد نظریه تکنیک های مختلف رشد کریستال در رابطه با مزایا و محدودیت های آنها برای استفاده در دستگاه های نیمه هادی III-V بحث می کند.
The main emphasis of this volume is on III-V semiconductor epitaxial and bulk crystal growth techniques. Chapters are also included on material characterization and ion implantation. In order to put these growth techniques into perspective a thorough review of the physics and technology of III-V devices is presented. This is the first book of its kind to discuss the theory of the various crystal growth techniques in relation to their advantages and limitations for use in III-V semiconductor devices
Content:
Materials Processing – Theory and Practices
Page ii
Front Matter
Page iii
Copyright page
Page iv
Introduction to the Series
Pages v-vi
Franklin F.Y. WANG
Previous Volumes in the Series
Page vii
Preface to Volume 7
Pages vii-ix
Roger J. MALIK
Advisory Board
Page xii
CHAPTER 1 - Melt-Growth of Iii–V Compounds by the Liquid Encapsulation and Horizontal Growth Techniques
Pages 1-72
J.B. MULLIN
CHAPTER 2 - Liquid Phase Epitaxial Growth
Pages 73-110
N. TABATABAIE, V.M. ROBBINS, G.E. STILLMAN
CHAPTER 3 - Vapor Phase Epitaxy of Iii–V Semiconductors
Pages 111-145
R.T. GREEN, C.M. WOLFE
CHAPTER 4 - Metalorganic Chemical Vapor Deposition of Iii–V Semiconductors
Pages 147-216
PD. DAPKUS, J.J. COLEMAN
CHAPTER 5 - Molecular Beam Epitaxy
Pages 217-330
H. SAKAKI
CHAPTER 6 - Ion Implantation in Iii–V Semiconductors
Pages 331-428
J.P. DONNELLY
CHAPTER 7 - Characterization of Iii–V Semiconductors
Pages 429-494
D.C. REYNOLDS, D.C. LOOK
CHAPTER 8 - Iii–V Semiconductor Devices
Pages 495-719
H. BENEKING
Subject Index
Pages 721-727