ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب High Density Plasma Sources. Design, Physics and Performance

دانلود کتاب منابع پلاسما با چگالی بالا. طراحی ، فیزیک و عملکرد

High Density Plasma Sources. Design, Physics and Performance

مشخصات کتاب

High Density Plasma Sources. Design, Physics and Performance

ویرایش:  
نویسندگان:   
سری: Materials science and process technology series., Electronic materials and process technology 
ISBN (شابک) : 9780815513773 
ناشر: Noyes Publications 
سال نشر: 1995 
تعداد صفحات: 453 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 6 مگابایت 

قیمت کتاب (تومان) : 48,000



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 21


در صورت تبدیل فایل کتاب High Density Plasma Sources. Design, Physics and Performance به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب منابع پلاسما با چگالی بالا. طراحی ، فیزیک و عملکرد نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب منابع پلاسما با چگالی بالا. طراحی ، فیزیک و عملکرد

محتوا:
پیشگفتار، صفحات vii-xii، Oleg A. Popov
مشارکت کنندگان، صفحات xiii-xiv
1 - منابع پلاسمای هلیکن، صفحات 1-75، فرانسیس اف. چن
2 - منابع القایی مسطح، صفحات 76-99، جان سی. فورستر، جان اچ. کلر
3 - محافظ الکترواستاتیکی منابع پلاسمای RF جفت القایی، صفحات 100-148، Wayne L. Johnson
4 - منابع پلاسمای خازنی با فرکانس بسیار بالا ، صفحات 149-190، Michael J. Colgan، M. Meyyappan
5 - منابع پلاسمای موج سطحی , صفحات 191-250, Michel Moisan, Joëlle Margot, Zenon Zakrzewski
6 - مایکروویو ماشینهای پردازش دیسک پلاسما, صفحات 251- 311، جس آسموسن
7 - منابع پلاسمای تشدید سیکلوترون الکترون، صفحات 312-379، جیمز ای. استیونز
8 - منابع پلاسمای ECR توزیع شده، صفحات 380-425، Jacques Pelletier
Index، صفحات 426-445


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Content:
Preface, Pages vii-xii, Oleg A. Popov
Contributors, Pages xiii-xiv
1 - Helicon Plasma Sources, Pages 1-75, Francis F. Chen
2 - Planar Inductive Sources, Pages 76-99, John C. Forster, John H. Keller
3 - Electrostatically-Shielded Inductively-Coupled RF Plasma Sources, Pages 100-148, Wayne L. Johnson
4 - Very High Frequency Capacitive Plasma Sources, Pages 149-190, Michael J. Colgan, M. Meyyappan
5 - Surface Wave Plasma Sources, Pages 191-250, Michel Moisan, Joëlle Margot, Zenon Zakrzewski
6 - Microwave Plasma Disk Processing Machines, Pages 251-311, Jes Asmussen
7 - Electron Cyclotron Resonance Plasma Sources, Pages 312-379, James E. Stevens
8 - Distributed ECR Plasma Sources, Pages 380-425, Jacques Pelletier
Index, Pages 426-445





نظرات کاربران