مشخصات کتاب

Handbook of Vlsi Microlithography. Principles, Technology and Applications

ویرایش: 1 
نویسندگان: William B. Glendinning and John N. Helbert (Eds.)  
سری:  
ISBN (شابک) : 9780815512813, 0815512813 
ناشر: William Andrew 
سال نشر: 1991 
تعداد صفحات: 659 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 75 مگابایت 

در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Vlsi Microlithography. Principles, Technology and Applications به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب راهنمای ریز سنگی ولسی. اصول، فناوری و کاربردها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب راهنمای ریز سنگی ولسی. اصول، فناوری و کاربردها

این کتاب راهنما به خوانندگان نگاهی دقیق به کل فناوری چاپ الگوهای مدار مجتمع (IC) با وضوح بسیار بالا و چگالی بالا در پوشش‌های نازک انتقال فرآیند مقاوم می‌دهد - از جمله لیتوگرافی نوری، پرتو الکترونی، پرتو یونی و لیتوگرافی اشعه ایکس. موضوع اصلی کتاب، فرآیند چاپ ویژه مورد نیاز برای دستیابی به تولید تراشه های آی سی با چگالی بالا، به ویژه در صنعت حافظه با دسترسی تصادفی پویا (DRAM) است.

این کتاب با مقایسه روش‌های مختلف لیتوگرافی، سه پارامتر الگوی اصلی خط/فضا، وضوح، لبه خط و کنترل ابعاد ویژگی الگو را پوشش می‌دهد. توضیح کتاب در مورد فناوری تجهیزات فرآیند مقاومت و مقاومت ممکن است اولین توصیف عملی از رابطه بین پارامترهای فرآیند مقاومت و تجهیزات باشد. اصول اولیه فناوری مقاومت به طور کامل پوشش داده شده است - از جمله یک فصل کامل در مورد نقص فرآیند مقاومت و اثر محدود کننده بازده بالقوه بر تولید دستگاه.

هر تکنیک لیتوگرافی جایگزین و روش تست مورد بررسی و ارزیابی قرار می گیرد: اندازه شناسی پایه شامل تکنیک های نوری، میکروسکوپ اسکن الکترونی (SEM) و دستگاه های تست الکتریکی، همراه با توضیحاتی در مورد ابزارهای چاپ واقعی و طراحی، ساخت و ساز آنها. کارایی. ویراستار یک فصل کامل را به چاپگرهای پیچیده و پیچیده پرتو الکترونی امروزی و به فناوری نوظهور چاپ اشعه ایکس که اکنون در دستگاه‌های CMOS با چگالی بالا استفاده می‌شود، اختصاص داده است. چاپ ذرات یونی پرانرژی یک فناوری قابل کنترل و هدایت پذیر است که به مقاومت متکی نیست و بخش آخر کتاب راهنما را اشغال می کند.

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This handbook gives readers a close look at the entire technology of printing very high resolution and high density integrated circuit (IC) patterns into thin resist process transfer coatings-- including optical lithography, electron beam, ion beam, and x-ray lithography. The book's main theme is the special printing process needed to achieve volume high density IC chip production, especially in the Dynamic Random Access Memory (DRAM) industry.

The book leads off with a comparison of various lithography methods, covering the three major patterning parameters of line/space, resolution, line edge and pattern feature dimension control. The book's explanation of resist and resist process equipment technology may well be the first practical description of the relationship between the resist process and equipment parameters. The basics of resist technology are completely covered -- including an entire chapter on resist process defectivity and the potential yield limiting effect on device production.

Each alternative lithographic technique and testing method is considered and evaluated: basic metrology including optical, scanning-electron-microscope (SEM) techniques and electrical test devices, along with explanations of actual printing tools and their design, construction and performance. The editor devotes an entire chapter to today's sophisticated, complex electron-beam printers, and to the emerging x-ray printing technology now used in high-density CMOS devices. Energetic ion particle printing is a controllable, steerable technology that does not rely on resist, and occupies a final section of the handbook

فهرست مطالب

Content: 
Front Matter, Page iii
Copyright, Page iv
MATERIALS SCIENCE AND PROCESS TECHNOLOGY SERIES, Pages v-vi
PREFACE, Pages vii-x, William B. Glendinning, John N. Helbert
CONTRIBUTORS, Page xi
NOTICE, Page xii
1 - LITHOGRAPHY TOOL SELECTION STRATEGY, Pages 1-40, Phillip Blais, Michael Michaels
2 - RESIST TECHNOLOGY – DESIGN, PROCESSING AND APPLICATIONS, Pages 41-147, John Helbert
3 - MICROLITHOGRAPHY METROLOGY, Pages 148-238, Robert Larrabee, Loren Linholm, Michael T. Postek
4 - TECHNIQUES AND TOOLS FOR OPTICAL LITHOGRAPHY, Pages 239-364, Whit Waldo
5 - ELECTRON BEAM PATTERNING AND DIRECT WRITE, Pages 365-438, Lee Veneklasen
6 - X-RAY LITHOGRAPHY, Pages 439-553, William B. Glendinning, Franco Cerrina
7 - Ion Lithography and Focused Ion Beam Implantation, Pages 554-637, John Melngailis
INDEX, Pages 638-649

نظرات کاربران

کتاب های تصادفی

دانلود کتاب Advanced Engineering and Technology

دانلود کتاب Landwirtschaftlicher Wasserbau

دانلود کتاب Economics: A Beginner's Guide

دانلود کتاب Business Analysis Based on BABOK® Guide Version 2 – A Pocket Guide

دانلود کتاب Kaspers/Küfner Messen — Steuern — Regeln: Elemente der Automatisierungstechnik