دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Handbook of Thin Film Process Technology 98/1 Reactive sputtering
دانلود کتاب کتابچه راهنمای فناوری فرآیند لایه نازک 98/1 کندوپاش واکنشی
مشخصات کتاب
Handbook of Thin Film Process Technology 98/1 Reactive sputtering
ویرایش: 1 نویسندگان: Westwood. William Dickson, D Glocker, S Shah سری: ISBN (شابک) : 0750305282, 9780750305280 ناشر: Institute of Physics Publishing;CRC Press سال نشر: 1998 تعداد صفحات: 90 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 6 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 34,000
کلمات کلیدی مربوط به کتاب کتابچه راهنمای فناوری فرآیند لایه نازک 98/1 کندوپاش واکنشی: فیلم‌های نازک -- کتاب‌های راهنما، کتابچه‌های راهنما، و غیره، سطوح (تکنولوژی) - کتاب‌های راهنما، راهنماها، و غیره، سطوح (فناوری)، فیلم‌های نازک.
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Thin Film Process Technology 98/1 Reactive sputtering به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب کتابچه راهنمای فناوری فرآیند لایه نازک 98/1 کندوپاش واکنشی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب کتابچه راهنمای فناوری فرآیند لایه نازک 98/1 کندوپاش واکنشی
کتاب راهنمای فناوری فرآیند لایه نازک یک کتاب راهنمای کاربردی برای دانشمند، مهندس و تکنسین فیلم نازک است. کار اصلی به طور منظم با مطالب جدید به روز می شود و این جلد یک شماره ویژه در مورد کندوپاش واکنشی است که علاوه بر صاحبان کتاب اصلی مورد توجه طیف وسیعی از محققان صنعتی و دانشگاهی خواهد بود. برخی از پیشرفت‌های اخیر در زمینه کندوپاش واکنشی، از جمله کندوپاش مگنترون نامتعادل و کندوپاش واکنشی پالسی پوشش داده شده‌اند. این مقالات حاوی اطلاعات عملی فراوانی در رابطه با کاربردها، تمرینات و تکنیک های ساخت هستند
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
The Handbook of Thin Film Process Technology is a practical handbook for the thin film scientist, engineer and technician. The main work is regularly updated with new material, and this volume is a special issue on reactive sputtering which will be of interest to a wide range of industrial and academic researchers in addition to owners of the main Handbook. Some recent developments in the reactive sputtering field are covered, including unbalanced magnetron sputtering and pulsed reactive sputtering. The articles contain a wealth of practical information relating to applications, practice and manufacturing techniques
