مشخصات کتاب

Handbook of Thin Film Deposition Processes and Techniques. Principles, Methods, Equipment and Applicatios

ویرایش:  
نویسندگان: Krisna Seshan (Eds.)  
سری:  
ISBN (شابک) : 9780815514428 
ناشر: Elsevier 
سال نشر: 2001 
تعداد صفحات: 629 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 13 مگابایت 

در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Thin Film Deposition Processes and Techniques. Principles, Methods, Equipment and Applicatios به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب کتابچه راهنمای روشها و تکنیکهای رسوب نازک فیلم. اصول ، روش ها ، تجهیزات و برنامه ها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.

توضیحاتی در مورد کتاب کتابچه راهنمای روشها و تکنیکهای رسوب نازک فیلم. اصول ، روش ها ، تجهیزات و برنامه ها

محتوا:
پیشگفتار، صفحات ix-x، گوردون ای. مور
پیشگفتار برای ویرایش دوم، صفحات xi-xii، کریشنا سشان
پیشگفتار نسخه اول، صفحات xiii-xiv</ i>، Klaus K. Schuegraf
مشارکت کنندگان، صفحات xv-xvi
تغییرات اخیر در صنعت نیمه هادی</ a>، صفحات 1-9، کریشنا سشان
1 - فن آوری ها و کاربردهای رسوب گذاری: مقدمه و بررسی اجمالی، صفحات 11-43، Werner Kern، Klaus K. Schuegraf
2 - Silicon Epitaxy by Chemical Vapor Deposition، صفحات 45-110، مارتین ال. هاموند
3 - رسوب شیمیایی بخار فیلمهای دی اکسید سیلیکون، صفحات 111-150، جان فوجیاتو
4 - رسوب بخار شیمیایی آلی فلزات: فناوری و تجهیزات، صفحات 151-203، جان ال. زیلکو
5 - مدلسازی مقیاس ویژه ، صفحات 205-240، ویوک سینگ
6 - نقش مترولوژی و بازرسی در پردازش نیمه هادی، صفحات 241-286، مارک کیفر، ربکا پینتو، چری دنیسون، جیمز تورلو
7 - کنترل آلودگی، تشخیص عیب، و افزایش بازده در تولید گیگابیت</ h3>، صفحات 287-318، سورش بات، کریشنا سشان
8 - رسوب کردن و کندوپاش، صفحات 319-348< /i>، Stephen Rossnagel
9 - لیزر و پردازش به کمک پرتو الکترونی، صفحات 349-379، Cameron A. Moore، Zeng-qi یو، لنس آر. تامپسون، جورج جی. کالینز
10 - اپیتاکسی پرتو مولکولی: تجهیزات و تمرین، صفحات 381-461، والتر اس نادل، رابرت چاو
11 - رسوب پرتو یونی، صفحات 463-499، جان آر. مک نیل، جیمز جی. مک نالی، پل دی Reader
12 - Chemical Mechanical Polishing، صفحات 501-512، Kenneth C. Cadien
13 - دی الکتریک های آلی در متالیزاسیون چند سطحی مدارهای مجتمع، صفحات 513-593، کریشنا سیشان، دومینیک جی. اسکپیس، لورا بی. روتمن
14 - عملکرد، پردازش، و لیتوگرافی روندها، صفحات 595-607، کریشنا سشان
فهرست، صفحات 609 -629

توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

Content:
Foreword, Pages ix-x, Gordon E. Moore
Preface to the Second Edition, Pages xi-xii, Krishna Seshan
Preface to the First Edition, Pages xiii-xiv, Klaus K. Schuegraf
Contributors, Pages xv-xvi
Recent Changes in the Semiconductor Industry, Pages 1-9, Krishna Seshan
1 - Deposition Technologies and Applications: Introduction and Overview, Pages 11-43, Werner Kern, Klaus K. Schuegraf
2 - Silicon Epitaxy by Chemical Vapor Deposition, Pages 45-110, Martin L. Hammond
3 - Chemical Vapor Deposition of Silicon Dioxide Films, Pages 111-150, John Foggiato
4 - Metal Organic Chemical Vapor Deposition: Technology and Equipment, Pages 151-203, John L. Zilko
5 - Feature Scale Modeling, Pages 205-240, Vivek Singh
6 - The Role Of Metrology And Inspection In Semiconductor Processing, Pages 241-286, Mark Keefer, Rebecca Pinto, Cheri Dennison, James Turlo
7 - Contamination Control, Defect Detection, and Yield Enhancement in Gigabit Manufacturing, Pages 287-318, Suresh Bhat, Krishna Seshan
8 - Sputtering and Sputter Deposition, Pages 319-348, Stephen Rossnagel
9 - Laser and Electron Beam Assisted Processing, Pages 349-379, Cameron A. Moore, Zeng-qi Yu, Lance R. Thompson, George J. Collins
10 - Molecular Beam Epitaxy: Equipment and Practice, Pages 381-461, Walter S. Knodle, Robert Chow
11 - Ion Beam Deposition, Pages 463-499, John R. McNeil, James J. McNally, Paul D. Reader
12 - Chemical Mechanical Polishing, Pages 501-512, Kenneth C. Cadien
13 - Organic Dielectrics in Multilevel Metallization of Integrated Circuits, Pages 513-593, Krishna Seshan, Dominic J. Schepis, Laura B. Rothman
14 - Performance, Processing, and Lithography Trends, Pages 595-607, Krishna Seshan
Index, Pages 609-629

نظرات کاربران

کتاب های تصادفی

دانلود کتاب Tudor Secrets and Scandals

دانلود کتاب The physics of degradation in engineered materials and devices : fundamentals and principles

دانلود کتاب Aircraft Design Concepts: An Introductory Course

دانلود کتاب Beyond Dichotomies: Histories, Identities, Cultures, and the Challenge of Globalization (Explorations in Postcolonial Studies)

دانلود کتاب Vilcabamba and the Archaeology of Inca Resistance