Handbook of Thin Film Deposition

راهنمای رسوب لایه نازک، ویرایش چهارم، یک مرجع جامع با تمرکز بر فناوری ها و کاربردهای لایه نازک مورد استفاده در صنعت نیمه هادی ها و زمینه های مرتبط نزدیک از رسوب لایه نازک، خواص میکرو لایه نازک، کاربردهای انرژی خورشیدی فتوولتائیک، مواد برای کاربردهای حافظه و روش‌هایی برای فرآیندهای نوری لایه نازک. این کتاب به سه بخش تقسیم شده است: مقیاس بندی، تجهیزات و پردازش، و کاربردها. در این نسخه تازه اصلاح شده، کتاب راهنما محدودیت‌های برنامه‌های لایه نازک را نیز بررسی می‌کند، به ویژه در رابطه با کاربردها در تولید، مواد، طراحی و قابلیت اطمینان.

• یک بررسی عملی از فناوری‌های لایه نازک را با هدف مهندسین و مدیران درگیر در تمام مراحل فرآیند ارائه می‌دهد: طراحی، ساخت، تضمین کیفیت، برنامه‌ها و محدودیت‌های پیش روی آن فرآیندها
• روندها و کاربردهای اصلی در صنعت نیمه هادی ها و پیشرفت های جدید در صنایع فیلم نازک فتوولتائیک و نوری را پوشش می دهد
• فصل جدیدی را در مورد دی الکتریک گیت ها ارائه می کند

Handbook of Thin Film Deposition, Fourth Edition, is a comprehensive reference focusing on thin film technologies and applications used in the semiconductor industry and the closely related areas of thin film deposition, thin film micro properties, photovoltaic solar energy applications, materials for memory applications and methods for thin film optical processes. The book is broken up into three sections: scaling, equipment and processing, and applications. In this newly revised edition, the handbook will also explore the limits of thin film applications, most notably as they relate to applications in manufacturing, materials, design and reliability.

• Offers a practical survey of thin film technologies aimed at engineers and managers involved in all stages of the process: design, fabrication, quality assurance, applications and the limitations faced by those processes
• Covers core processes and applications in the semiconductor industry and new developments within the photovoltaic and optical thin film industries
• Features a new chapter discussing Gates Dielectrics