ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology

دانلود کتاب راهنمای فناوری تمیز کردن ویفر نیمه هادی

Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology

مشخصات کتاب

Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology

دسته بندی: ابزار
ویرایش:  
نویسندگان:   
سری: Materials Science and Process Technology Series 
ISBN (شابک) : 9780815513315, 0815513313 
ناشر: William Andrew 
سال نشر: 1994 
تعداد صفحات: 634 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 35 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 28,000



کلمات کلیدی مربوط به کتاب راهنمای فناوری تمیز کردن ویفر نیمه هادی: ابزار دقیق، دستگاه های نیمه هادی، کتابچه راهنما، کاتالوگ، جداول



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 23


در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب راهنمای فناوری تمیز کردن ویفر نیمه هادی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب راهنمای فناوری تمیز کردن ویفر نیمه هادی

این کتاب تمام دانش مربوطه در مورد تمیز کردن ویفر نیمه هادی و رشته های علمی و فنی مرتبط مستقیم یا غیرمستقیم با این موضوع را در یک جلد گرد هم آورده است. این کتاب اولین شرکت جامع و به روز را ارائه می دهد


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This book brings together into one volume all pertinent knowledge on semiconductor wafer cleaning and the scientific and technical disciplines associated directly or indirectly with this subject. The book provides the first comprehensive and up-to-date co



فهرست مطالب


Content:
 Front Matter 
• Preface 
• Table of Contents 
•Part I. Introduction and Overview 1. Overview and Evolution of Semiconductor Wafer Contamination and Cleaning Technology 
 2. Trace Chemical Contamination on Silicon Surfaces 
•Part II. Wet-Chemical Processes 3. Aqueous Cleaning Processes 
 4. Particle Deposition and Adhesion 
•Part III. Dry Cleaning Processes 5. Overview of Dry Wafer Cleaning Processes 
 6. Ultraviolet-Ozone Cleaning of Semiconductor Surfaces 
 7. Vapor Phase Wafer Cleaning Technology 
 8. Remote Plasma Processing for Silicon Wafer Cleaning 
•Part IV. Analytical and Control Aspects 9. Measurement and Control of Particulate Contaminants 
 10. Silicon Surface Chemical Composition and Morphology 
 11. Analysis and Control of Electrically Active Contaminants by Surface Charge Analysis 
 12. Ultratrace Impurity Analysis of Silicon Surfaces by SIMS and TXRF Methods 
•Part V. Conclusions and Future Directions 13. Future Directions 
 Index




نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی