دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: ریاضیات کاربردی ویرایش: نویسندگان: Donald L. Tolliver سری: ISBN (شابک) : 0815511515, 9780815517443 ناشر: سال نشر: 1989 تعداد صفحات: 511 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 10 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Contamination Control in Microelectronics: Principles, Applications and Technology (Materials Science and Process Technology Series) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب کتابچه راهنمای کنترل آلودگی در میکروالکترونیک: اصول، کاربردها و فناوری (مجموعه علم مواد و فناوری فرآیند) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این کتاب کنترل آلودگی را به شیوه ای جامع معرفی می کند. اصول اولیه را برای مبتدیان پوشش میدهد و به عمق مسائل مهمتر مهندسی فرآیند و ساخت مدار برای خواننده پیشرفتهتر میپردازد. خواننده شروع به دیدن این خواهد کرد که چگونه پازل کنترل آلودگی کنار هم قرار می گیرد و بر روی اصول مورد نیاز برای برتری در تولید نیمه هادی مدرن تمرکز می کند. چیزی که منطقه کنترل آلودگی را منحصر به فرد می کند، ماهیت همه جا حاضر آن در تمام جنبه های تولید نیمه هادی است. فناوری اتاق تمیز، که به عنوان یک نیاز اساسی در تولید مدارهای مدرن امروزی شناخته شده است، به سختی سطح را در کنترل آلودگی کامل خراش می دهد. این کتاب راهنما اکثر دسته بندی های اصلی در فناوری کنترل آلودگی فعلی را تعریف و توصیف می کند.
This book introduces contamination control in a comprehensive manner. It covers the basics for the beginner, and delves in depth into the more critical issues of process engineering and circuit manufacturing for the more advanced reader. The reader will begin to see how the puzzle of contamination control comes together and to focus on the fundamentals required for excellence in modern semiconductor manufacturing. What makes the area of contamination control unique is its ubiquitous nature, across all facets of semiconductor manufacturing. Clean room technology, well recognized as a fundamental requirement in modern day circuit manufacturing, barely scratches the surface in total contamination control. This handbook defines and describes most of the major categories in current contamination control technology.
Content:
Front Matter
Preface
Table of Contents
1. Bulk Crystal Growth
2. MOCVD of Compound Semiconductor Layers
3. Molecular Beam Epitaxy
4. Physical and Chemical Deposition of Metals as Ohmic Contacts to InP and Related Materials
5. Surface Processing of III-V Semiconductors
6. Ion Implantation Induced Extended Defects in GaAs
7. Passivation of GaAs and InP
8. Wet and Dry Etching of Compound Semiconductors
9. Rapid Isothermal Processing (RIP)
10. Epitaxial Lift-off for Thin Film Compound Semiconductor Devices
11. Packaging
12. Chemical, Structural and Electronic Characterization of Compound Semiconductor Surfaces and Interfaces by X-ray Photoelectron Spectroscopy and Diffraction Techniques
13. Characterization of Compound Semiconductor Material by Ion Beams
14. Optical Characterization of Compound Semiconductors
15. Gallium Arsenide Microelectronic Devices and Circuits
16. Optoelectronic Devices
Index