دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
دانلود کتاب Handbook of Chemical Vapour Deposition
دانلود کتاب دفترچه راهنمای بخار شیمیایی
مشخصات کتاب
Handbook of Chemical Vapour Deposition
ویرایش: 2
نویسندگان: Hugh O.Pierson
سری:
ISBN (شابک) : 9780815514329
ناشر: William Andrew
سال نشر:
تعداد صفحات: 424
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 3 مگابایت
قیمت کتاب (تومان) : 50,000
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Chemical Vapour Deposition به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب دفترچه راهنمای بخار شیمیایی نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
توضیحاتی در مورد کتاب دفترچه راهنمای بخار شیمیایی
برای درک آخرین پیشرفت ها در فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD) به این ویرایش دوم جدید مراجعه کنید. فناوری CVD اخیراً با سرعت زیادی رشد کرده است و تعداد و دامنه کاربردهای آن و تأثیر آنها بر بازار به طور قابل توجهی افزایش یافته است. اکنون تخمین زده می شود که بازار حداقل دو برابر بازار هفت سال پیش باشد که اولین ویرایش این کتاب منتشر شد. نسخه دوم یک به روز رسانی با دامنه گسترده و تجدید نظر شده است. CVD پلاسما و CVD متالو آلی دو عامل اصلی در این رشد سریع هستند. خوانندگان آخرین داده های مربوط به هر دو فرآیند را در این جلد خواهند یافت. به همین ترتیب، کتاب اهمیت رو به رشد CVD در تولید نیمه هادی ها و کاربردهای مرتبط را توضیح می دهد.
توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی
Turn to this new second edition for an understanding of the latest advances in the chemical vapor deposition (CVD) process. CVD technology has recently grown at a rapid rate, and the number and scope of its applications and their impact on the market have increased considerably. The market is now estimated to be at least double that of a mere seven years ago when the first edition of this book was published. The second edition is an update with a considerably expanded and revised scope. Plasma CVD and metallo-organic CVD are two major factors in this rapid growth. Readers will find the latest data on both processes in this volume. Likewise, the book explains the growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.
