دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
دسته بندی: علم شیمی ویرایش: 2 نویسندگان: Hugh O. Pierson سری: ISBN (شابک) : 0815514328, 9780815517412 ناشر: سال نشر: 2000 تعداد صفحات: 505 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 2 مگابایت
کلمات کلیدی مربوط به کتاب هندبوک رسوب بخار شیمیایی، ویرایش دوم: اصول، فناوری ها و کاربردها (سری علم مواد و فناوری فرآیند): شیمی و صنایع شیمیایی، شیمی حالت جامد، کتابچه راهنما، کاتالوگ، جداول
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Chemical Vapor Deposition, Second Edition : Principles, Technologies and Applications (Materials Science and Process Technology Series) به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب هندبوک رسوب بخار شیمیایی، ویرایش دوم: اصول، فناوری ها و کاربردها (سری علم مواد و فناوری فرآیند) نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
برای درک آخرین پیشرفت ها در فرآیند رسوب بخار شیمیایی (CVD) به این ویرایش دوم جدید مراجعه کنید. فناوری CVD اخیراً با سرعت زیادی رشد کرده است و تعداد و دامنه کاربردهای آن و تأثیر آنها بر بازار به طور قابل توجهی افزایش یافته است. اکنون تخمین زده می شود که بازار حداقل دو برابر بازار هفت سال پیش باشد که اولین ویرایش این کتاب منتشر شد. نسخه دوم یک به روز رسانی با دامنه گسترده و تجدید نظر شده است. CVD پلاسما و CVD متالو آلی دو عامل اصلی در این رشد سریع هستند. خوانندگان آخرین داده های مربوط به هر دو فرآیند را در این جلد خواهند یافت. به همین ترتیب، کتاب اهمیت رو به رشد CVD در تولید نیمه هادی ها و کاربردهای مرتبط را توضیح می دهد.
Turn to this new second edition for an understanding of the latest advances in the chemical vapor deposition (CVD) process. CVD technology has recently grown at a rapid rate, and the number and scope of its applications and their impact on the market have increased considerably. The market is now estimated to be at least double that of a mere seven years ago when the first edition of this book was published. The second edition is an update with a considerably expanded and revised scope. Plasma CVD and metallo-organic CVD are two major factors in this rapid growth. Readers will find the latest data on both processes in this volume. Likewise, the book explains the growing importance of CVD in production of semiconductor and related applications.