دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش: 1 نویسندگان: J. W. Coburn (auth.), Dr. Randy J. Shul, Professor Stephen J. Pearton (eds.) سری: ISBN (شابک) : 9783642630965, 9783642569890 ناشر: Springer-Verlag Berlin Heidelberg سال نشر: 2000 تعداد صفحات: 663 زبان: English فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) حجم فایل: 22 مگابایت
در صورت تبدیل فایل کتاب Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب راهنمای تکنیک های پیشرفته پردازش پلاسما نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
این جلد موضوع تکنیکهای پیشرفته پردازش پلاسما، از فیزیک بنیادی پلاسما گرفته تا تشخیص، مدلسازی و کاربردهایی مانند اچ کردن و رسوبگذاری برای میکروالکترونیک را پوشش میدهد. استفاده از پلاسما برای الگوبرداری در مقیاس زیر میکرونی، نسلهای متوالی ترانزیستورها، لیزرها، میکروماشینها، حسگرها و هدهای خواندن/نوشتن مغناطیسی را که اساس عصر اطلاعات ما را تشکیل دادهاند، بهطور مداوم کوچکتر را قادر ساخته است. این جلد اولین جلدی است که این حوزه وسیع از موضوعات را به صورت دقیق پوشش می دهد، به ویژه در زمینه های به سرعت در حال گسترش ماشین های میکرو مکانیکی، ساخت ماسک های عکس، ذخیره سازی داده های مغناطیسی و مدل سازی راکتور. این مجموعه طیف گسترده ای از موضوعات را در اختیار خواننده قرار می دهد که توسط متخصصان برجسته در این زمینه تألیف شده است.
This volume covers the topic of advanced plasma processing techniques, from the fundamental physics of plasmas to diagnostics, modeling and applications such as etching and deposition for microelectronics. The use of plasmas for patterning on a submicron scale has enabled successive generations of continually smaller transistors, lasers, micromachines, sensors and magnetic read/write heads that have formed the basis of our information age. This volume is the first to give coverage to this broad area of topics in a detailed fashion, especially in the rapidly expanding fields of micro-mechanical machines, photomask fabrication, magnetic data storage and reactor modeling. It provides the reader with a broad array of topics, authored by the leading experts in the field.
Front Matter....Pages I-XVI
Some Fundamental Aspects of Plasma-Assisted Etching....Pages 1-32
Plasma Fundamentals for Materials Processing....Pages 33-68
Plasma Modeling....Pages 69-121
Plasma Reactor Modeling....Pages 123-144
Overview of Plasma Diagnostic Techniques....Pages 145-204
Mass Spectrometric Characterization of Plasma Etching Processes....Pages 205-256
Fundamentals of Plasma Process-Induced Charging and Damage....Pages 257-308
Surface Damage Induced by Dry Etching....Pages 309-360
Photomask Etching....Pages 361-418
Bulk Si Micromachining for Integrated Microsystems and MEMS Processing....Pages 419-458
Plasma Processing of III-V Materials....Pages 459-505
Ion Beam Etching of Compound Semiconductors....Pages 507-547
Dry Etching of InP Vias....Pages 549-573
Device Damage During Low Temperature High-Density Plasma Chemical Vapor Deposition....Pages 575-605
Dry Etching of Magnetic Materials....Pages 607-647
Back Matter....Pages 649-655