دسترسی نامحدود
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید
در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید
برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند
درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب
از ساعت 7 صبح تا 10 شب
ویرایش:
نویسندگان: Hongyu Yu
سری: Chemistry Research and Applications
ISBN (شابک) : 1634631641, 9781634631648
ناشر: Nova Science Pub Inc
سال نشر: 2014
تعداد صفحات: 161
[171]
زبان: English
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود)
حجم فایل: 4 Mb
در صورت تبدیل فایل کتاب Hafnium: Chemical Characteristics, Production and Applications به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.
توجه داشته باشید کتاب هافنیوم: خصوصیات شیمیایی، تولید و کاربردها نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.
هافنیوم یک عنصر شیمیایی با نماد Hf و عدد اتمی 72 است. این کتاب کمکهای متخصصان در زمینههای مرتبط خود را گرد هم میآورد تا اهمیت و اهمیت هافنیوم را در اشکال مختلف نشان دهد. این کتاب از شش فصل تشکیل شده است که توسط متخصصان در زمینه مربوطه نوشته شده است و این کتاب را برای جوامع علم مواد گروه چهارم ارزشمند می کند. موضوعات ارائه شده در کتاب یک مرور کلی از مسائل مهم ترکیبات مختلف هافنیوم (مانند کاربرد نیترید هافنیوم/کاربید هافنیوم به عنوان ماده پوششی و کاربرد اکسید هافنیوم به عنوان لایه دی الکتریک در حافظه غیر فرار/حالت-از) ارائه می کند. دستگاه های CMOS هنری). ما معتقدیم این کتاب برای بسیاری از خوانندگان ارزش علمی و آموزشی زیادی دارد. بنابراین خوانندگان می توانند با آخرین دانش در زمینه های مرتبط آشنا شوند.
Hafnium is a chemical element with the symbol Hf and atomic number 72. This book brings together contributions from experts in their related fields to illustrate the significance and importance of hafnium in different forms. This book is composed of six chapters written by experts in their respective fields making this book valuable to the group-IV materials science communities. The subjects presented in the book offer a general overview of the important issues of various hafnium compounds (eg: Hafnium nitride/Hafnium carbide application as a coating material, and Hafnium oxide application as the dielectric layer in non-volatile memory/state-of-the-art CMOS devices). We believe the book is of great scientific and educational value for many readers. Readers thus can familiarise themselves with the latest knowledge in the related fields.