ورود به حساب

نام کاربری گذرواژه

گذرواژه را فراموش کردید؟ کلیک کنید

حساب کاربری ندارید؟ ساخت حساب

ساخت حساب کاربری

نام نام کاربری ایمیل شماره موبایل گذرواژه

برای ارتباط با ما می توانید از طریق شماره موبایل زیر از طریق تماس و پیامک با ما در ارتباط باشید


09117307688
09117179751

در صورت عدم پاسخ گویی از طریق پیامک با پشتیبان در ارتباط باشید

دسترسی نامحدود

برای کاربرانی که ثبت نام کرده اند

ضمانت بازگشت وجه

درصورت عدم همخوانی توضیحات با کتاب

پشتیبانی

از ساعت 7 صبح تا 10 شب

دانلود کتاب Fundamentals of Plasma Chemistry

دانلود کتاب اصول شیمی پلاسما

Fundamentals of Plasma Chemistry

مشخصات کتاب

Fundamentals of Plasma Chemistry

دسته بندی: فیزیک
ویرایش:  
نویسندگان:   
سری: Advances In Atomic, Molecular, and Optical Physics 43 
ISBN (شابک) : 9780120038435 
ناشر: Elsevier, Academic Press 
سال نشر: 2000 
تعداد صفحات: 439 
زبان: English 
فرمت فایل : PDF (درصورت درخواست کاربر به PDF، EPUB یا AZW3 تبدیل می شود) 
حجم فایل: 20 مگابایت

قیمت کتاب (تومان) : 54,000

در صورت ایرانی بودن نویسنده امکان دانلود وجود ندارد و مبلغ عودت داده خواهد شد



کلمات کلیدی مربوط به کتاب اصول شیمی پلاسما: فیزیک، نشریات ادواری فیزیک، پیشرفت در فیزیک اتمی، مولکولی و نوری



ثبت امتیاز به این کتاب

میانگین امتیاز به این کتاب :
       تعداد امتیاز دهندگان : 8


در صورت تبدیل فایل کتاب Fundamentals of Plasma Chemistry به فرمت های PDF، EPUB، AZW3، MOBI و یا DJVU می توانید به پشتیبان اطلاع دهید تا فایل مورد نظر را تبدیل نمایند.

توجه داشته باشید کتاب اصول شیمی پلاسما نسخه زبان اصلی می باشد و کتاب ترجمه شده به فارسی نمی باشد. وبسایت اینترنشنال لایبرری ارائه دهنده کتاب های زبان اصلی می باشد و هیچ گونه کتاب ترجمه شده یا نوشته شده به فارسی را ارائه نمی دهد.


توضیحاتی در مورد کتاب اصول شیمی پلاسما

این مجموعه که در سال 1965 تأسیس شد، به تحولات اخیر در حوزه کلی فیزیک اتمی، مولکولی و نوری می پردازد. این رشته در وضعیت رشد سریعی قرار دارد، زیرا از تکنیک های تجربی و نظری جدید در بسیاری از مسائل قدیمی و جدید استفاده می شود. موضوعات تحت پوشش همچنین شامل حوزه های کاربردی مرتبط، مانند علوم جو، اخترفیزیک، فیزیک سطح، و فیزیک لیزر است. مقالات توسط کارشناسان برجسته ای که در زمینه های تحقیقاتی خود فعال هستند نوشته شده است. مقالات حاوی مطالب بررسی مرتبط و همچنین توضیحات مفصلی از تحولات مهم اخیر هستند.


توضیحاتی درمورد کتاب به خارجی

This series, established in 1965, is concerned with recent developments in the general area of atomic, molecular, and optical physics. The field is in a state of rapid growth, as new experimental and theoretical techniques are used on many old and new problems. Topics covered also include related applied areas, such as atmospheric science, astrophysics, surface physics, and laser physics.Articles are written by distinguished experts who are active in their research fields. The articles contain both relevant review material as well as detailed descriptions of important recent developments.



فهرست مطالب

Content: 
Editors
Page ii

Edited by
Page iii

Copyright page
Page iv

Contributors
Pages ix-x

Plasma Processing of Materials and Atomic, Molecular, and Optical Physics. An Introduction Original Research Article
Pages 1-17
Hiroshi Tanaka, Mitio Inokuti

The Boltzmann Equation and Transport Coefficients of Electrons in Weakly Ionized Plasmas Original Research Article
Pages 19-77
R. Winkler

Electron Collision Data for Plasma Chemistry Modeling Original Research Article
Pages 79-110
W.L. Morgan

Electron—Molecule Collisions in Low-Temperature Plasmas: The Role of Theory Original Research Article
Pages 111-145
Carl Winstead, Vincent Mckoy

Electron Impact Ionization of Organic Silicon Compounds Original Research Article
Pages 147-185
Ralf Basner, Martin Schmidt, Kurt Becker, Hans Deutsch

Kinetic Energy Dependence of Ion–Molecule Reactions Related to Plasma Chemistry Original Research Article
Pages 187-229
P.B. Armentrout

Physicochemical Aspects of Atomic and Molecular Processes in Reactive Plasmas Original Research Article
Pages 231-241
Yoshihiko Hatano

Ion—Molecule Reactions Original Research Article
Pages 243-294
Werner Lindinger, Armin Hansel, Zdenek Herman

Uses of High-Sensitivity White-Light Absorption Spectroscopy In Chemical Vapor Deposition and Plasma Processing Original Research Article
Pages 295-339
L.W. Anderson, A.N. Goyette, J.E. Lawler

Fundamental Processes of Plasma—Surface Interactions Original Research Article
Pages 341-371
Rainer Hippler

Recent Applications of Gaseous Discharges: Dusty Plasmas and Upward-Directed Lightning Original Research Article
Pages 373-390,390a,391-398
Ara Chutjian

Opportunities and Challenges for Atomic, Molecular, and Optical Physics in Plasma Chemistry Original Research Article
Pages 399-406
Kurt Becker, Hans Deutsch, Mitio Inokuti

Index
Pages 407-414





نظرات کاربران

تمامی حقوق معنوی و مادی وبسایت متعلق به اینترنشنال لایبرری می باشد
نماد اعتماد الکترونیکی